[發明專利]一種用于印刷型場發射顯示器的下基板及其制作方法無效
| 申請號: | 200910022663.2 | 申請日: | 2009-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN101620969A | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發明(設計)人: | 李軍 | 申請(專利權)人: | 彩虹集團公司 |
| 主分類號: | H01J29/00 | 分類號: | H01J29/00;H01J9/00 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 | 代理人: | 陸萬壽 |
| 地址: | 71202*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 印刷 發射 顯示器 下基板 及其 制作方法 | ||
1.一種用于印刷型場發射顯示器的下基板,包括玻璃基板(1)、印制在玻璃基板(1)上的柵極(2)、柵極(2)上的絕緣介質層(3)和下基板最上部的陰極(5),其特征在于:所述下基板包括設置在絕緣介質層(3)和陰極(5)之間的SiO2絕緣層(4)。
2.一種用于印刷型場發射顯示器的下基板制作方法,其特征在于,按照以下步驟:
(1)、制作柵極:用去污粉和去離子水分別超聲清洗玻璃基板(1)并用氣槍吹干,然后用精密絲網印刷機在玻璃基板(1)上印刷柵極(2),玻璃基板(1)上的印刷柵極(2)在100℃干燥20min后燒結,燒結制度為370℃保溫20min,570℃保溫20min,升溫速率5℃/min,得到柵極(2);
(2)、制作絕緣介質層:在柵極(2)上印刷絕緣介質層(3),印刷好的絕緣介質層(3)在100℃干燥20min后燒結,燒結制度為370℃保溫20min,580℃保溫20min,升溫速率5℃/min,得到絕緣介質層(3);
(3)、制作SiO2絕緣層:利用磁控濺射法,用鎳合金片制作掩膜,在絕緣介質層(3)上濺射SiO2膜,獲得帶SiO2絕緣層(4),SiO2絕緣層(4)厚度為200nm;所述磁控濺射法采用SiO2陶瓷靶作靶材,襯底溫度為400℃,工作氣體為Ar,背底真空度為4×10-3Pa,工作氣壓為0.8Pa,濺射功率為350W,濺射時間為10min;
(4)、制作陰極:在SiO2絕緣層(4)上印刷陰極(5)銀漿料,印刷好的陰極(5)銀漿料在100℃干燥20min后燒結,燒結制度為370℃保溫20min,570℃保溫20min,升溫速率5℃/min,得到陰極(5);
(5)、制作陰極發射體:碳納米管、有機載體和金屬填料混合均勻配制成漿料,漿料中碳納米管的質量分數為8%-20%,金屬填料的質量分數為4%-10%,余量為有機載體;將漿料印刷在陰極(5)上并在120℃干燥20min后燒結,燒結制度為340℃保溫20min,450℃保溫20min,升溫速率5℃/min,得到陰極發射體(6),完成下基板的制作。
3.根據權利要求2所述的一種用于印刷型場發射顯示器的下基板制作方法,其特征在于:所述有機載體由松油醇和乙基纖維素按照質量比9∶1的比例構成。
4.根據權利要求2所述的一種用于印刷型場發射顯示器的下基板制作方法,其特征在于:所述金屬填料為銀納米顆粒。
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