[發明專利]雙面凹凸絲絨及其制造方法

無效

• 申請號: 200910012520.3
• 申請日: 2009-07-13
• 公開（公告）號: CN101956280A
• 公開（公告）日: 2011-01-26
• 發明（設計）人: 楊永發;田喜梅;宋德坤;尹偉;陸建華;鄭曉霞;李笑薇
• 申請（專利權）人: 楊永發
• 主分類號: D03D27/06
• 分類號: D03D27/06;D03D27/10;D03D13/00;D03D39/18
• 代理公司: 沈陽亞泰專利商標代理有限公司 21107
• 代理人: 史旭泰

1.雙面凹凸絲絨，包括由底緯線(3)和底經線(2)交織而成的底織物(1)，以及固結于底緯線(3)、間隔于底經線(2)間的絨經線(5)，其特征在于絨經線(5)的絨頭(4)相鄰或者相背地分別位于底織物(1)的兩側面上。

2.根據權利要求1所述的雙面凹凸絲絨，其特征在于以底經線(2)所在的平面為剖面，絨經線(5)呈“W”和“M”形。

3.根據權利要求1所述的雙面凹凸絲絨，其特征在于凹凸花型為小提花。

4.根據權利要求1所述的雙面凹凸絲絨，其特征在于凹凸花型為大提花。

5.雙面凹凸絲絨的制造方法是：在一個完全的絲絨循環組織(7)中上、下層的最外兩側上設置有拉緯線(6)；絨經線(5)除與完全的絲絨循環組織(7)中的底緯線(3)交織外，絨經線(5)還將避開上層的拉緯線(6)與下層的拉緯線(6)進行交織，或者絨經線(5)將避開下層的拉緯線(6)與上層的拉緯線(6)進行交織；然后，經割絨及拉緯，產生雙面凹凸的絲絨。

6.根據權利要求5所述的雙面凹凸絲絨的制造方法，其特征在于在完全的絲絨循環組織(7)的兩組相同的底織物(1)最外兩側、在將產生凸花型處設置有不與底經線(2)相交織的拉緯線(6)；絨經線(5)按“S”形路線依次繞著拉緯線(6)、三根底緯線(3)及下一根拉緯線(6)，再從斜向相對底織物(1)的底緯線(3)開始，按“S”形路線依次繞著相對的三根底緯線(3)；然后從相鄰、相對底織物(1)上的拉緯線(6)開始，重復上述絨經線(5)的排布方式，或是根據凹花型要求從相鄰、相對底織物(1)的底緯線(3)開始，按“S”形路線依次繞著其三根底緯線(3)，再從斜向相對底織物(1)上的拉緯線(6)開始，按“S”形路線依次繞著拉緯線(6)、所述的三根底緯線(3)及下一根拉緯線(6)，進行織造；當完全的絲絨循環組織(7)經絨經線(5)織造后，在其兩組底織物(1)之間進行割絨；然后，拉緯，與拉緯線(6)交織過的絨經線(5)被割絨后形成的絨頭(4)，在拉緯的作用下全部被拉到絨背的一側，而未與拉緯線(6)交織的絨經線(5)被割絨形成的絨頭(4)則不受拉緯的影響仍留在絨面的一側，即形成了兩組相同的雙面凹凸的絲絨。

7.根據權利要求5或6所述的雙面凹凸絲絨的制造方法，其特征在于在織造時，采用一個絨經織軸。