[發明專利]真空顯影機構有效
| 申請號： | 200910011829.0 | 申請日： | 2009-06-03 |
| 公開（公告）號： | CN101907834A | 公開（公告）日： | 2010-12-08 |
| 發明（設計）人： | 宗潤福;陳焱 | 申請（專利權）人： | 沈陽芯源微電子設備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/30 | 分類號： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人： | 張志偉 |
| 地址： | 110168 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 顯影 機構 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空顯影機構，其特征在于：該真空顯影機構設有主軸、承片臺、噴頭、上蓋、顯影腔體，上蓋和顯影腔體扣合，上蓋和顯影腔體之間加有密封圈；承片臺和承片臺底部的主軸連接，主軸和顯影腔體間裝有密封圈，顯影和清洗的噴頭裝在上蓋上。
2.按照權利要求1所述的真空顯影機構，其特征在于：噴頭一端伸至上蓋內側，與承片臺上的基片對應，噴頭另一端連接供液管路。
3.按照權利要求1所述的真空顯影機構，其特征在于：上蓋外側連接氣缸，上蓋的開合由氣缸驅動。
4.按照權利要求1所述的真空顯影機構，其特征在于：顯影腔體接有排液管路、真空管路、氮氣管路和大氣管路，在各管路上分別設有閥門。
5.按照權利要求1所述的真空顯影機構，其特征在于：基片通過真空吸附在承片臺上，真空吸附的管路穿過主軸和承片臺至基片底部。
6.按照權利要求1所述的真空顯影機構，其特征在于：在顯影時，該真空顯影機構的顯影腔體為真空腔體，顯影工藝過程在真空環境下完成。
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