[發明專利]全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統無效
| 申請號: | 200910011028.4 | 申請日: | 2009-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN101851748A | 公開(公告)日: | 2010-10-06 |
| 發明(設計)人: | 趙科新;趙崇凌;李士軍;洪克超;段鑫陽;張振厚;張冬;張健;徐寶利;鐘福強;奚建平;高振國;崔秀偉 | 申請(專利權)人: | 中國科學院沈陽科學儀器研制中心有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/34 | 分類號: | C23C16/34;C23C16/54;C23C16/44;H01L21/205;H01L31/18 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人: | 許宗富;周秀梅 |
| 地址: | 110168 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 全自動 大型 平板 pecvd 氮化 硅覆膜 制備 系統 | ||
1.一種全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統,其特征在于:包括自動傳輸裝載臺(1)、預熱室(2)、PECVD室(3)、冷卻室(4)及自動傳輸卸載臺(5),其中預熱室(2)、PECVD室(3)及冷卻室(4)依次安裝在臺架上,自動傳輸裝載臺(1)與預熱室(2)相連,自動傳輸卸載臺(5)與冷卻室(4)相連;預熱室(2)、PECVD室(3)及冷卻室(4)分別通過氣體管路(7)連接有真空抽氣系統(6)。
2.按權利要求1所述的全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統,其特征在于:所述預熱室(2)可為多個,串聯連接于自動傳輸裝載臺(1)與PECVD室(3)之間。
3.按權利要求1所述的全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統,其特征在于:所述冷卻室(4)可為多個,串聯連接PECVD室(3)與自動傳輸卸載臺(5)之間。
4.按權利要求1所述的全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統,其特征在于:所述PECVD室(3)可為多個,串聯連接于預熱室(2)與冷卻室(4)之間。
5.按權利要求1所述的全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統,其特征在于:所述預熱室(2)、PECVD室(3)及冷卻室(4)分別通過螺栓安裝在各自的臺架上,各臺架之間通過螺栓連接,自動傳輸裝載臺(1)與承載預熱室(2)的臺架通過螺栓相連接,自動傳輸卸載臺(5)與承載冷卻室(4)的臺架通過螺栓相連接。
6.按權利要求1所述的全自動大型平板PECVD氮化硅覆膜制備系統,其特征在于:在自動傳輸裝載臺(1)及自動傳輸卸載臺(5)上加設有機械手。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





