[發(fā)明專利]表層高殘余應(yīng)力樣品橫截面透射電鏡試樣的制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910010849.6 | 申請(qǐng)日: | 2009-03-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101509848A | 公開(公告)日: | 2009-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳春煥;任瑞銘;趙秀娟;李國軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大連交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N1/28 | 分類號(hào): | G01N1/28;C23F4/00 |
| 代理公司: | 大連東方專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 李 猛 |
| 地址: | 116028遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表層 殘余 應(yīng)力 樣品 橫截面 透射 試樣 制備 方法 | ||
1.一種表層高殘余應(yīng)力樣品橫截面透射電鏡試樣的制備方法,順序包括機(jī)械預(yù)減薄,熱固化粘貼,夾持固定,剪切,離子減薄的步驟,其特征在于
(1)當(dāng)樣品機(jī)械預(yù)減薄至30μm后,用Gatan?G2在80-120℃,30-90min的條件下熱固化樹脂把樣品粘貼到鉬環(huán)上,此時(shí)采用Teflon板夾持固定的方式矯正和限制樣品的彎曲變形;
(2)為防止和減少沉積污染,在進(jìn)行離子減薄前把樣品對(duì)面的小半個(gè)鉬環(huán)剪掉;
(3)將(2)直接用離子減薄方法減薄至電子束透明以減少其它機(jī)械減薄方法可能引入的損傷和缺陷;并通過離子束只在垂直于樣品表面從樣品內(nèi)部向外的方向上入射的模式保護(hù)表面層或者界面。?
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