[發明專利]曝光裝置、曝光方法及組件制造方法

無效

• 申請號: 200910008214.2
• 申請日: 2005-10-12
• 公開（公告）號: CN101487981A
• 公開（公告）日: 2009-07-22
• 發明（設計）人: 長坂博之
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 許海蘭

本申請是申請號為200580032801.5、國際申請日為2005年10月12日(遞交日為2007年3月28日)、發明名稱為“曝光裝置、曝光方法及組件制造方法”的發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及透過液體使基板曝光之曝光裝置、曝光方法及組件制造方法。

背景技術

在半導體組件或液晶顯示組件等組件之工序之一的光刻工序中，系使用將形成于掩模上之圖案投影曝光至感光性基板上的曝光裝置。此曝光裝置，具有支撐掩模之掩模載臺與支撐基板之基板載臺，一邊使掩模載臺與基板載臺逐次移動一邊透過投影光學系統將掩模之圖案投影曝光至基板。于微組件之制造中，為進行組件之高密度化，皆要求基板上所形成之圖案的微細化。為滿足此要求，對曝光裝置進一步期望具有更高分辨率。作為實現該高分辨率之一手段，提出了一種如下述專利文獻1所揭示之以液體充滿投影光學系統與基板之間來形成液浸區域，透過該液浸區域之液體來進行曝光處理的液浸曝光裝置。

[專利文獻1]國際公開第99/49504號公報

液浸曝光裝置中，有可能因液體性質等之變化而使透過液體之成像特性等產生變動，而無法維持所希望之曝光精度。

發明內容

本發明為解決上述問題，其目的在提供一種曝光裝置、曝光方法及使用該曝光裝置之組件制造方法，其能在透過液體進行曝光時將曝光精度維持于所希望狀態。

為解決上述課題，本發明系采用對應圖1～圖10所示之實施形態的以下構成。但賦予各要件后括號內之符號僅系例示該要件，并無限定各要件之意圖。

本發明第1形式之曝光裝置，系透過液體使基板曝光，其特征在于，具備：投影光學系統；以及測量裝置，系用以測量該液體之光學特性。

根據本發明之第1形式，由于設有用以測量液體之光學特性的測量裝置，因此能根據其測量結果，掌握液體之光學特性，以謀求適當之處置。故能在透過液體進行曝光時將曝光精度維持于所希望狀態。

本發明第2形式之曝光裝置，系透過液體使基板曝光，其特征在于，具備：投影光學系統；液體供應機構，系對該投影光學系統之像面側供應液體；以及混合裝置，系設于該液體供應機構，用以混合多種類之液體；該液體供應機構，系供應以該混合裝置混合之液體。

根據本發明之第2形式，使用混合裝置將多種類之液體加以彼此適當的混合，即能制成具有所希望特性之液體。因此，能在透過液體進行曝光時將曝光精度成為所希望狀態。

本發明之第3形式，系提供一種使用上述曝光裝置的組件制造方法。根據本發明之第3形式，由于能維持所希望之曝光精度，因此能制造具有所希望性能之組件。

本發明第4形式之曝光方法，系以既定圖案像透過液體使基板曝光，其特征在于，包含：在對既定圖案像之形成區域供應該液體之前，測量該液體之光學特性的步驟；調整曝光條件的步驟；以及以該既定圖案像透過液體使基板曝光的步驟。

根據本發明第4形式之曝光方法，由于系在對既定圖案像之形成區域供應該液體之前測量該液體之光學特性，因此能根據該測量結果將該圖案之所希望像形成在基板上。

本發明第5形式之曝光方法，系以既定圖案像透過液體使基板曝，其特征在于，包含：混合多種液體的步驟；測量該液體之混合前、及/或混合后之液體之光學特性的步驟；以及透過該混合后之液體使基板曝光的步驟。

根據本發明第5形式之曝光方法，由于系在混合多種液體之前、及/或混合后，測量該液體之光學特性，因此能根據該測量結果將所希望之液體供應至基板上。

本發明第6形式之曝光方法，系以既定圖案像透過液體使基板曝，其特征在于，包含：混合多種液體的步驟；調整圖案像之成像特性，以獲得該既定圖案之所希望像的步驟；以及透過該混合后之液體使基板曝光的步驟。

根據本發明第6形式之曝光方法，可通過混合多種液體以將所希望液體供應于液浸曝光的步驟，以及調整圖案像之成像特性，以透過該調制之液體獲得既定圖案之所希望像的步驟，來將含成像特性之液浸曝光的條件予以最佳化。

本發明第7形式之組件制造方法，包含：依照上述任一形式之曝光方法使基板曝光的步驟；對曝光后之基板進行顯影的步驟；以及對顯影后之基板進行加工的步驟。根據本發明第7形式之組件制造方法，能制造具有所希望性能之組件。

根據本發明，能在透過液體進行曝光時將曝光精度維持于所希望狀態，并提供具有所希望性能之組件。

附圖說明

圖1是第1實施形態之曝光裝置的概略構成圖。

圖2是顯示液體供應機構的構成圖。