[發(fā)明專利]曝光裝置、曝光方法及組件制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910008214.2
• 申請日: 2005-10-12
• 公開（公告）號: CN101487981A
• 公開（公告）日: 2009-07-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 長坂博之
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 許海蘭

1、一種曝光裝置，透過液體使基板曝光，其特征在于，具備：

投影光學(xué)系統(tǒng)；

液體供應(yīng)機構(gòu)，對所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)裙?yīng)液體；

混合裝置，設(shè)于所述液體供應(yīng)機構(gòu)，用以混合多種類的液體；

測量裝置，測量以所述混合裝置混合后的液體；以及

控制裝置，根據(jù)所述測量裝置的測量結(jié)果，來調(diào)整所述混合裝置中多種液體的混合比；

所述液體供應(yīng)機構(gòu)供應(yīng)以所述混合裝置混合后的液體。

2、如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中，所述混合裝置混合光學(xué)特性彼此不同的液體。

3、如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中，所述混合裝置根據(jù)構(gòu)成所述投影光學(xué)系統(tǒng)的多個光學(xué)元件中、最接近該投影光學(xué)系統(tǒng)像面的第1光學(xué)元件的光學(xué)特性，來混合供應(yīng)至所述投影光學(xué)系統(tǒng)像面?zhèn)鹊囊后w。

4、如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其中，所述混合裝置將所述液體混合成其折射率大于所述第1光學(xué)元件的折射率。

5、如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其中，所述混合裝置將所述液體混合成其折射率與所述第1光學(xué)元件的折射率相同。

6、如權(quán)利要求1至5中任一項所述的曝光裝置，其具備用以回收所述液體供應(yīng)機構(gòu)所供應(yīng)的液體的液體回收機構(gòu)；

所述液體回收機構(gòu)將所回收的液體送回至液體供應(yīng)機構(gòu)。

7、如權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其中，所述液體回收機構(gòu)送回所回收的液體的一部分。

8、如權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其中，所述液體回收機構(gòu)具備對所回收的液體施以既定處理的處理裝置，將以所述處理裝置處理后的液體送回所述液體供應(yīng)機構(gòu)。

9、如權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其中，所述處理裝置使所回收的液體潔凈。

10、一種組件制造方法，其特征在于，包含：

使用權(quán)利要求1至9中任一項所述的曝光裝置使基板曝光的步驟；

對曝光后的基板進行顯影的步驟；以及

對顯影后的基板進行加工的步驟。