[發明專利]具有改進的分隔板的對式鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200910005136.0
• 申請日: 2009-02-01
• 公開（公告）號: CN101503795A
• 公開（公告）日: 2009-08-12
• 發明（設計）人: 漢斯·沃爾夫;奧利弗·海梅爾;喬治·克爾帕爾-海斯;弗蘭克·弗徹斯
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/54;C23C14/34;C23C14/35;C23C16/50
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 王安武;南 霆

技術領域

本發明涉及一種用于為基底鍍膜的鍍膜裝置，該裝置包括至少兩個彼 此相鄰布置的處理室，兩個相鄰的處理室之間的一個分隔板和用于為處理 室抽真空的泵裝置。

背景技術

用于為基底鍍膜的鍍膜裝置已被熟知，并且被廣泛地用于工業中的各 種應用。例如，建筑玻璃被鍍上絕熱層以改進熱傳導性能。工業用鍍膜的 其他例子還有平板電視、計算機顯示器或太陽能電池，其包括鍍有不同涂 層以成為功能單元的平板基底，用來將太陽光轉化為電流或將電信號轉化 為光發射。

相應地，對允許在較大的平板基底上沉積薄膜的方法和裝置的需求越 來越高。因此，希望能有高精度沉積的鍍膜裝置，其允許迅速的、自動化 的且有效的鍍膜過程。

現有技術中公開的各種鍍膜裝置的例子可以在DE19505258C2、 DE10348281A1、DE10352144A1和EP1717339A2中被找到。

DE10348281A1公開了一種用于矩形或正方形的平的基底的真空處理 裝置，其具有被基底裝卸機構分開的兩個真空室。DE10348281A1中的裝 卸機構允許在不暴露于環境的同時，將基底從鎖合機構中移至其中一個處 理室。

DE19505258C2也公開了一種包括兩個處理室的鍍膜裝置。兩個處理 室彼此間隔并被導管連接，其允許用普通的泵裝置將真空室抽真空。

盡管上述具有兩個處理室的鍍膜裝置可以充分達到鍍膜效果，但用于 將基底從一個處理室移至另一個處理室的裝卸時間是上述鍍膜裝置的設計 的一個缺點。相應地，現有技術公開了所謂的直列鍍膜裝置(in-line coating?devices)，其中基底被連續地從一個處理室移至下一個處理室，未 離開沿基底通過處理室的通道所設置的真空環境。DE10352144A1和 EP1717339A2中公開了這種鍍膜裝置的例子。

DE10352144A1中的鍍膜裝置包括不同的鍍膜部分，其中材料被濺射 到基底上，鍍膜過程中基底在目標濺射源的下方或上方移動，或者處于靜 止。在鍍膜部分之間、鍍膜裝置的入口或出口處設置泵裝置，以對基底的 通道和處理室抽真空，從而進行濺射過程。由于要在鍍膜部分之間設置泵 裝置，其所需的空間較大。

EP1717339A2公開了直列鍍膜裝置，其采用鄰接的室或平行的通道 (一個用于運輸基底通過處理室，一個用于掩模和運載體的返回運輸和它 們的清潔)。這種設計節約空間并使裝置有效運行。這種直列鍍膜裝置具 有通過鄰接的真空室或處理室的通道，還可用于有效地增加此裝置的吞吐 量，并且第二通道不僅用于掩模和運載體的返回運輸，還用于并行鍍膜過 程。

然而，盡管已經在鍍膜過程和鍍膜裝置的發展上做了很多的努力，但 是改進的空間仍然存在。

發明內容

因此本發明的目的是提供一種鍍膜裝置，其效率被提高，并且同時保 證高質量沉積。

相應地，本發明的目的是減少鍍膜裝置所需的空間，并減少生產該裝 置所使用的材料。此外，這樣的裝置要盡可能易于加工、便于使用。

上述目的可以由具有權利要求1中的特征的裝置來實現。從屬權利要 求對應于優選實施例。

根據本發明，提供的鍍膜裝置包括至少兩個彼此相鄰布置的處理室， 并被他們之間的分隔板分隔開。這種對式鍍膜裝置的基本設計可以簡化處 理室的結構，并更易于加工。此外，這種設計節約空間。

本發明的鍍膜裝置還包括用于為處理室抽真空的泵裝置，因為例如濺 射的許多鍍膜過程需要低壓或真空環境。

根據本發明，兩個處理室間的分隔板包括導管，其一端連接到泵裝 置，并且其另一端具有用于兩個處理室的至少一個抽氣口。然而，也可以 設置至少兩個抽氣口，每一個分別地、獨立地為每個處理室抽氣。

這種集成了導管的分隔板的設計可以節約鍍膜裝置的結構的空間，因 為泵裝置不必要設置在獨立的泵的部分中(使整個裝置的長度增加)，而 是允許將泵裝置放置在任意的位置或用戶定義的位置。

此外，在分隔板上或分隔板內設置導管加強了分隔板，從而可以減少 分隔板材料的使用(分隔板的厚度可以減小)。此外，兩個處理室使用相 同的泵裝置可以使相鄰的處理室具有相近的壓力，從而進一步減小了對分 隔板的強度和剛度的要求。