[發明專利]流動控制方法

有效

• 申請號: 200910004595.7
• 申請日: 2003-09-10
• 公開（公告）號: CN101491889A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發明（設計）人: M·G·惠勒
• 申請（專利權）人: 美國艾默生電氣公司
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02;B24B29/02;B24B37/04;H01L21/304
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 彭 武;楊松齡

本申請是申請日為2003年9月10日，申請號為03825480.8的專利申請“流動控制系統”的分案申請。?

技術領域

本發明總體上涉及流體流動及控制，尤其涉及適于在超高純或腐蝕性應用中使用的流體流動控制系統。?

背景技術

例如半導體、制藥、以及生物技術的許多產業都遇到了流體輸送的問題，一般來說，這歸咎于低流率、磨料化學流體的使用、腐蝕性化學流體的使用、和對沒有污染物、準確、緊湊且實時的流體輸送及/或混合系統的需要。?

例如，化學機械平面化(CMP)在半導體產業中是關鍵的過程，該關鍵的過程包括將半導體的晶片表面壓平的過程。在大多數應用中，涂有漿液的磨光墊以被控制的速度相對于該半導體晶片旋轉，以壓平表面。該漿液包括使表面化學地變軟的化合物，還包括與磨光墊一起工作的研磨劑，以機械地拋光表面。為了使CMP理想地工作，機械和化學的拋光必須在精密的平衡下一起工作-該平衡的任何變化可能引起對晶片的損壞或降低成品率。如果沒有漿液，那么所有的拋光都是機械式的，就像用砂紙來拋光玻璃一樣。如果有過多的漿液，那么大多數的拋光是化學式的，并且平衡再次被打破。晶片的拋光率高度依賴于流體的輸送速度以及在拋光操作過程中所輸送的流體總量。?

對例如CMP的過程來說，漿液輸送系統一般包括容積式泵，例如蠕動泵，以從容器中抽出漿液并將其涂到磨光墊上。該泵使流體以近似恒定的速度運動，該恒定速度依賴于泵的速度，盡管蠕動泵的動作會引起流體輸送速度的脈動。由于蠕動泵是體積流體輸送系統，所以流量隨著條件的改變而變化，所述條件是指例如泵管壽命、泵管溫度、流體組成、泵馬達速度、流體在容器中的水平、泵校準等。?

此外，在許多CMP及類似過程中，流體例如漿液被應用在高架循環?環路中。這樣的漿液環路通常用氣動膜片泵來驅動。多個CMP工具可以從同一環路中被驅動。環路中的壓力可以在一個工具抽出漿液時變化。環路壓力的變化可能在另一工具連接到同一環路上時影響漿液流率。?

所有這些對過程流體流率的影響被認為降低了CMP過程中的晶片成品率。因此，需要提供一種克服了與現有技術有關的缺點的流體輸送系統。?

發明內容

在本發明的一個方面中，公開了一種用于控制到CMP工具的漿液流的方法，包括：提供預先裝有漿液的一次性袋；使該一次性袋定位為與漿液出口流體連通；將CMP工具連接到所述漿液出口；和壓陷該一次性袋，以便將漿液以所希望的流率從該一次性袋排出到該CMP工具。?

附圖說明

本發明的其它目的和優點在閱讀了以下的詳細說明及參照附圖后就會變得明了，其中：?

圖1是在概念上示出了根據本發明的方面的流動控制系統的框圖。?

圖2主要示出了根據本發明的示例性實施例的流動控制系統。?

圖3主要示出了根據本發明的另一個示例性實施例的流動控制系統。?

圖4主要示出了根據本發明的又一示例性實施例的流動控制系統。?

盡管本發明易于進行多種變更及替代形式，但其特定實施例已通過附圖中的例子被示出且在此進行了詳細的說明。然而應當理解的是，在此特定實施例的說明不意味著將本發明限制于所公開的具體形式，而相反地，本發明包括在由附加的權利要求所限定的發明主旨及范圍內的所有變更、等效形式、及替代形式。?

具體實施方式

本發明的說明性實施例如下所述。為了簡明，并不是實際實施方案的所有特征都在本說明書中進行了描述。當然應理解的是，任何這樣的實際實施例的開發、許多實施方案特殊的決定都必須被作出以實現開發者的目標，例如符合關于系統及商業的限制，這就使實施方案彼此不同。此外，應理解的是，這樣的開發工作可能是復雜和費時的，但對受益于?本公開內容的本領域的普通技術人員來說仍然是日常的任務。?

圖1是在概念上示出了根據本發明的方案的流動控制系統100的部分的方框圖。圖1所示的該示例性泵系統100包括基本上剛性的容器110，所述容器110包括通常定位在剛性容器100的一側的入口114和出口116。過程流體貯存器112以與該入口114及出口116流體連通的方式位于該剛性容器100中。為了從該過程流體貯存器110中排出過程流體，該過程流體貯存器如下面進一步所述地被壓陷。在特定實施例中，該過程流體貯存器112設置為預先填充有過程流體，因此該入口114未被設置。?