[發明專利]光刻設備和校準方法有效
| 申請號: | 200910003815.4 | 申請日: | 2009-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN101504511A | 公開(公告)日: | 2009-08-12 |
| 發明(設計)人: | M·W·M·范德維基斯特;G·安格利斯;R·G·克拉沃爾;M·R·漢姆爾斯;B·T·沃哈爾;P·霍埃克斯卓 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 王新華 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 設備 校準 方法 | ||
1.一種臺系統校準方法,其包括步驟:
a)響應提供的預定位置的設定點信號,相對于編碼器柵格移動臺, 所述臺的位置通過臺控制器進行控制;
b)在所述移動過程中,通過傳感器頭與所述編碼器柵格協作操作來測 量所述臺的位置,所述傳感器頭安裝在所述臺上;
c)寄存表示設定點信號所提供的預定位置和由所述傳感器頭所測的 臺的位置之間的差異的信號;和
d)通過表示所述差異的寄存信號校準所述臺系統;
在步驟a)中,當朝向恒定速度加速所述臺時增大所述臺控制器的帶寬, 以及設置和調整臺使其速度接近移動的恒定速度時減小所述臺控制器的所 述帶寬。
2.如權利要求1所述的方法,其中,與感測柵格中將要被校準的不規 則性所用的速度相比,所述臺控制器的帶寬較低。
3.如權利要求1所述的方法,其包括對于臺相對于所述編碼器柵格的 至少兩次不同的移動,重復a)-c),并且在d)之前,通過應用二維濾波器 過濾所述寄存的表示所述差異的信號。
4.如權利要求3所述的方法,其中,所述濾波器包括在將要校準的空 間頻率范圍內的空間帶寬。
5.如權利要求1所述的方法,其包括,在d)之前,通過應用在將要 校準的空間頻率范圍內的空間帶寬過濾表示所述差異的所述寄存信號。
6.如權利要求1所述的方法,其包括:
對于所述臺相對于所述編碼器柵格的不同位置重復所述臺的移動;
對于所述不同位置平均在c)步驟寄存的所述信號,以獲得平均信號曲 線;和
從所述寄存的表示所述差異的信號減去所述平均信號曲線,在所減去 后的結果的基礎上進行所述校準。
7.如權利要求6所述的方法,其包括:
對比在c)步驟寄存的信號的峰值,通過對比得到可能的波動參數,在 從所述寄存的表示所述差異的信號中減去平均信號曲線之前將所述波動參 數應用到所述平均信號曲線。
8.如權利要求1所述的方法,其包括:
執行多次所述臺相對于所述編碼器柵格的移動,所述移動在速度、方 向、臺移動的開始位置、臺的長行程電機的開始位置和移動方位中至少一 方面彼此不同,每個所述移動的所述寄存信號被平均。
9.如權利要求1所述的方法,其包括:
應用迭代學習控制以學習在將要校準的空間頻率范圍外的空間頻率范 圍內的誤差。
10.如權利要求1所述的方法,其包括:
在雙臺光刻設備中交換臺之后重復所述臺相對于所述編碼器柵格的移 動。
11.如權利要求1所述的方法,其中,所述移動包括恒定速度移動部分 和加速移動部分,在所述加速移動部分過程中所述臺的加速相對于所述臺 控制器的帶寬是較慢的。
12.如權利要求1所述的方法,其中對于所述臺的相同移動,通過重復 a)-d)提供迭代校準。
13.如權利要求1所述的方法,其包括:
在所述臺的所述移動過程中,通過加速計測量所述臺的加速度;從所 測的加速度得到校正信號,并且在校準之前用所述校正信號校正表示設定 點信號與臺的位置之間的差異的信號。
14.如權利要求1所述的方法,其包括:
在所述臺移動過程中,通過加速計測量所述臺的加速度,將加速度反 饋提供給所述臺控制器。
15.如權利要求1所述的方法,其包括:
用所述臺控制器的帶通濾波反控制靈敏度乘以表示所述設定點信號和 所述臺的位置之間的差異的信號,將相乘的結果用來校準。
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