[發明專利]具有提高電子遷移率的量子阱的顯示基板和顯示裝置有效
| 申請號: | 200910002122.3 | 申請日: | 2009-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN101487961A | 公開(公告)日: | 2009-07-22 |
| 發明(設計)人: | 尹甲洙;梁成勛;金成烈;吳和烈;崔在鎬;崔龍模 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/017;H01L27/12 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 劉曉峰 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 提高 電子 遷移率 量子 顯示 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板,所述顯示基板包括:
柵極布線;
第一半導體圖案,所述第一半導體圖案形成在所述柵極布線上并且具 有第一能帶隙,其中所述第一半導體圖案包含非晶硅;
第二半導體圖案,所述第二半導體圖案形成在所述第一半導體圖案上 并且具有第二能帶隙,所述第二能帶隙大于所述第一能帶隙,其中所述第 二半導體圖案包含氧化物;
數據布線,所述數據布線形成在所述第一半導體圖案上;以及
像素電極,所述像素電極與所述數據布線電連接;
其中在所述第一半導體圖案中形成量子阱。
2.權利要求1所述的顯示基板,其中所述第二半導體圖案被設置在所 述數據布線下面,并且與所述數據布線形成歐姆接觸。
3.權利要求1所述的顯示基板,其中所述第二半導體圖案包含O,以 及Ga、In、Zn、Sn、C0、Ti和Mg中的至少一種。
4.權利要求1所述的顯示基板,還包括第三半導體圖案,所述第三半 導體圖案形成在所述柵極布線和所述第一半導體圖案之問,并且具有第三 能帶隙,所述第三能帶隙大于所述第一能帶隙。
5.權利要求1所述的顯示基板,還包括柵極絕緣膜,所述柵極絕緣膜 形成在所述柵極布線和所述第一半導體圖案之問。
6.權利要求1所述的顯示基板,還包括歐姆接觸層,所述歐姆接觸層 被設置在所述第一半導體圖案上,并且與所述數據布線形成歐姆接觸。
7.權利要求1所述的顯示基板,其中所述第一半導體圖案的厚度為 以下。
8.一種包括薄膜晶體管的顯示基板,所述薄膜晶體管包括:
柵極電極;
第一半導體圖案,所述第一半導體圖案形成在所述柵極電極上,并且 包含非晶硅;
第二半導體圖案,所述第二半導體圖案形成在所述第一半導體圖案上 并且包含氧化物;
源極電極,所述源極電極形成在所述第二半導體圖案上;以及
漏極電極,所述漏極電極形成在所述第二半導體圖案上,并且與所述 源極電極分開;
其中在所述第一半導體圖案中形成量子阱。
9.權利要求8所述的顯示基板,其中所述第二半導體圖案與所述源極 電極和所述漏極電極中的每一個形成歐姆接觸。
10.權利要求8所述的顯示基板,其中所述第一半導體圖案具有第一 能帶隙,并且所述第二半導體圖案具有第二能帶隙,所述第二能帶隙大于 所述第一能帶隙。
11.權利要求8所述的顯示基板,還包括柵極絕緣膜,所述柵極絕緣 膜形成在所述柵極布線和所述第一半導體圖案之間。
12.權利要求8所述的顯示基板,其中所述第二半導體圖案包含O, 以及Ga、In、Zn、Sn、Co、Ti和Mg中的至少一種。
13.權利要求8所述的顯示基板,其中所述第一半導體圖案的厚度為 以下。
14.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:
第一顯示基板;
第二顯示基板,所述第二顯示基板面對所述第一顯示基板;以及
液晶層,所述液晶層置于所述第一顯示基板和所述第二顯示基板之 間,
其中所述第一顯示基板包括:
柵極布線;
第一半導體圖案,所述第一半導體圖案形成在所述柵極布線上并 且具有第一能帶隙,其中所述第一半導體圖案包含非晶硅;
第二半導體圖案,所述第二半導體圖案形成在所述第一半導體圖 案上并且具有第二能帶隙,所述第二能帶隙大于所述第一能帶隙,其 中所述第二半導體圖案包含氧化物;
數據布線,所述數據布線形成在所述第一半導體圖案上;以及
像素電極,所述像素電極與所述數據布線電連接;
其中在所述第一半導體圖案中形成量子阱。
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