[發明專利]基于鑭系元素的納米顆粒作為放射增敏劑的應用

有效

• 申請號: 200880112101.0
• 申請日: 2008-10-14
• 公開（公告）號: CN101827614A
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發明（設計）人: 奧利弗·蒂耶芒;斯特凡妮·魯;帕斯卡爾·佩里亞;杰拉爾丁·勒迪克;塞利娜·芒東;布里斯·米特萊;克里斯托弗·阿爾里克;克萊雷·比約泰;馬克·雅尼耶;塞德里克·路易
• 申請（專利權）人: 克洛德·貝納爾-里昂第一大學;里昂奧斯皮思民用公司;國家科學研究中心;納諾公司;歐洲同步加速器輻射設備公司(安裝歐洲同步加速器輻射)
• 主分類號: A61K51/12
• 分類號: A61K51/12;A61P35/00
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 吳小瑛;呂俊清

1.粒徑在1nm-50nm之間、至少一部分由至少一種鑭系元素的至少一 種氧化物和/或至少一種羥基氧化物組成的納米顆粒作為放射增敏劑在制備 用于提高X或γ射線的腫瘤治療功效的注射用組合物中的應用，其中所述納 米顆粒：

-由至少一種鑭系元素的至少一種氧化物和/或至少一種羥基氧化物組 成，或者

-為包含核和涂層的納米顆粒的形式，其中所述核由至少一種鑭系元素的 至少一種氧化物和/或至少一種羥基氧化物組成，所述涂層由聚硅氧烷組成， 并可以在涂層的表面接枝或在其內部包含有機分子。

2.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述納米顆粒的粒徑小于5 nm?。

3.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述納米顆粒的粒徑小于2 nm。

4.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述納米顆粒包含至少兩種 不同的鑭系元素的氧化物和/或羥基氧化物，其中每種鑭系元素的質量占鑭系 元素總質量的比例大于10％。

5.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述納米顆粒包含至少兩種 不同的鑭系元素的氧化物和/或羥基氧化物，其中每種鑭系元素的質量占鑭系 元素總質量的比例大于20％。

6.如權利要求4或5所述的應用，其特征在于，不同鑭系元素的氧化物 和/或羥基氧化物位于連續的層中。

7.如權利要求4或5所述的應用，其特征在于，不同鑭系元素的氧化物 和/或羥基氧化物為固溶體的形式。

8.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述鑭系元素包含至少50 質量％的在MRI中產生信號、允許體內檢測所述顆粒的存在和/或監測所述治 療的鑭系元素。

9.如權利要求8所述的應用，其特征在于，所述鑭系元素包含至少50 質量％的釓(Gd)、鏑(Dy)、鈥(Ho)或這些鑭系元素的混合物。

10.如權利要求1所述的應用，其特征在于，選擇至少一部分所述鑭系 元素，從而具有足以用于中子捕獲的截面，進而還允許中子療法來治療。

11.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述鑭系元素的氧化物和/ 或氫氧化物包含至少30質量％的镥或鐿氧化物，或其混合物之一。

12.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述鑭系元素包含至少50％ 的釓。

13.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述包含至少一種鑭系元 素的至少一種氧化物和/或羥基氧化物的部分在其外圍包含產生MRI信號的 鑭系元素，并在其中心部分包含至少一種其它鑭系元素。

14.如權利要求13所述的應用，其特征在于，所述產生MRI信號的鑭 系元素為釓。

15.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述納米顆粒具有無機涂 層或混合的無機/有機涂層，并且所述鑭系元素的氧化物和/或羥基氧化物占 所述納米顆粒的全部無機組分的至少30質量％，所述有機組分與混合納米顆 粒共價結合，并且占最終顆粒質量的小于30質量％。

16.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述納米顆粒包含核和聚 硅氧烷涂層，其中，所述核為至少一種鑭系元素的至少一種氧化物和/或羥基 氧化物的形式，所述涂層占所述納米顆粒的無機組分的1-70質量％。

17.如權利要求16所述的應用，其特征在于，所述涂層為聚硅氧烷的形 式，并且所述硅原子數與鑭系元素原子數的比例在0.1-8之間。

18.如權利要求16所述的應用，其特征在于，所述涂層為聚硅氧烷涂層， 并且所述納米顆粒進一步包含與所述聚硅氧烷的至少10％的硅原子共價結合 的、摩爾質量小于5,000g/mol的親水有機分子。

19.如權利要求18所述的應用，其特征在于，所述親水有機分子的摩爾 質量小于450g/mol。