[發(fā)明專利]接觸塔

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880103404.6
• 申請日: 2008-08-13
• 公開（公告）號: CN101784334A
• 公開（公告）日: 2010-07-21
• 發(fā)明（設計）人: 中山喬
• 申請（專利權(quán)）人: 日揮株式會社
• 主分類號: B01J10/00
• 分類號: B01J10/00;B01D3/24;B01D53/18
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種接觸塔，在該接觸塔中，從塔內(nèi)的下部供給作為氣體的上 升流體，并且從所述塔內(nèi)的上部供給作為液體的下降流體，使氣體和 液體對流接觸，所述接觸塔的特征在于：

按照沿上升流體和下降流體的流路相互鄰接的上層室與下層室位 于不同高度位置的方式，多層設置形成所述上升流體和下降流體的對 流接觸空間的室，

所述上層室與所述下層室被隔壁所分隔，

在各層的隔壁中，在所述上層室的下部側(cè)面設置有下降流體噴出 孔，以作為用于形成所述下降流體的積存液體的抵抗而起作用且使下 降流體從該積存液體向所述下層室噴出，并且在比下降流體積存區(qū)域 更靠上方一側(cè)設置有來自該下層室的上升流體流入該上層室的上升流 體流入口，

所述下降流體噴出孔，在高度方向排列多個橫向細長的縫隙的狀 態(tài)下設置，或者在橫向排列多個沿高度方向延伸的細長的縫隙的狀態(tài) 下設置，或者由在橫向和高度方向排列多個的孔部構(gòu)成。

2.如權(quán)利要求1所述的接觸塔，其特征在于：

為了防止流經(jīng)下層室的上升流體通過該下降流體噴出孔流入上層 室，在所述下降流體噴出孔中設置有根據(jù)被所述隔壁所阻擋的下降流 體的量而開閉的第1閘門。

3.如權(quán)利要求2所述的接觸塔，其特征在于：

所述第1閘門被設置在該下降流體噴出孔的流出側(cè)，被第1施力 單元施加作用力而關(guān)閉，根據(jù)積存在上層室的下降流體的壓力抵抗所 述第1施力單元所施加的作用力而打開。

4.如權(quán)利要求2所述的接觸塔，其特征在于：

所述下降流體噴出孔被設置在室的側(cè)面，所述第1閘門構(gòu)成為在 關(guān)閉該下降流體噴出孔的下降位置與打開該下降流體噴出孔的上升位 置之間升降，通過積存在上層室的下降流體的浮力從下降位置上升。

5.如權(quán)利要求4所述的接觸塔，其特征在于：

所述下降流體噴出孔還被設置在室的底面，所述第1閘門構(gòu)成為 在所述下降位置關(guān)閉該底面的下降流體噴出孔。

6.如權(quán)利要求4所述的接觸塔，其特征在于：

所述第1閘門包括朝上層室一側(cè)在橫向突出的浮力調(diào)整部件。

7.一種接觸塔，在該接觸塔中，從塔內(nèi)的下部供給作為氣體的上 升流體，并且從所述塔內(nèi)的上部供給作為液體的下降流體，使氣體和 液體對流接觸，所述接觸塔的特征在于：

按照沿上升流體和下降流體的流路相互鄰接的上層室與下層室位 于不同高度位置的方式，多層設置形成所述上升流體和下降流體的對 流接觸空間的室，

所述上層室與所述下層室被隔壁所分隔，

在各層隔壁中，在所述上層室的底面設置有下降流體噴出孔，以 作為用于形成所述下降流體的積存液體的抵抗而起作用且使下降流體 從該積存液體向所述下層室噴出，并且在比下降流體積存區(qū)域更靠上 方一側(cè)設置有來自該下層室的上升流體流入該上層室的上升流體流入 口，

所述下降流體噴出孔由沿橫向或縱向延伸的多個縫隙或者在橫向 和縱向排列多個的孔部構(gòu)成。

8.如權(quán)利要求7所述的接觸塔，其特征在于：

所述下降流體噴出孔被設置在室的側(cè)面和底面，并設有第1閘門， 該第1閘門構(gòu)成為在關(guān)閉該下降流體噴出孔的下降位置與打開該下降 流體噴出孔的上升位置之間升降，通過積存在上層室中的下降流體的 浮力從下降位置上升。

9.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求7所述的接觸塔，其特征在于：

在所述上升流體流入口設置有第2閘門，該第2閘門根據(jù)從下層 室流向上層室的上升流體的壓力開閉該上升流體流入口的一部分。

10.如權(quán)利要求9所述的接觸塔，其特征在于：

所述第2閘門被設置在所述上升流體流入口的流出側(cè)，被第2施 力單元施加作用力而關(guān)閉，通過來自上升流體的壓力抵抗所述第2施 力單元所施加的作用力而打開。