[發(fā)明專利]碎片防止系統(tǒng)、輻射系統(tǒng)以及光刻設(shè)備

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880024373.5
• 申請(qǐng)日: 2008-07-16
• 公開（公告）號(hào): CN101689030A
• 公開（公告）日: 2010-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·M·J·W·范赫彭;W·A·索爾;K·杰里森
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G21K1/00;H05G2/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王新華

1.一種碎片防止系統(tǒng)，其構(gòu)造并布置成防止從輻射源發(fā)射的碎片與來自輻射源的輻射一起傳播進(jìn)入光刻設(shè)備或在光刻設(shè)備內(nèi)部傳播，所述碎片防止系統(tǒng)包括：

孔，其限定來自所述輻射源的所述輻射的最大發(fā)射角；

第一碎片阻擋件，其具有輻射透射率，所述第一碎片阻擋件包括可旋轉(zhuǎn)翼片阱；和

第二碎片阻擋件，其具有輻射透射率，

其中所述第一碎片阻擋件配置成覆蓋所述發(fā)射角的一部分并且所述第二碎片阻擋件配置成覆蓋所述發(fā)射角的另一部分，且其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱包括：相對(duì)于所述輻射源徑向安裝的軸；和多個(gè)翼片，所述多個(gè)翼片相對(duì)于所述軸徑向安裝，提供阻擋件抵擋所述碎片，所述軸被至少部分地放置在所述發(fā)射角的外側(cè)。

2.如權(quán)利要求1所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱布置成旋轉(zhuǎn)所述翼片進(jìn)入和出離所述發(fā)射角。

3.如權(quán)利要求1所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述第二碎片阻擋件包括另一可旋轉(zhuǎn)翼片阱。

4.如權(quán)利要求3所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱中的每個(gè)包括：相對(duì)于所述源徑向安裝的軸；和多個(gè)翼片，所述多個(gè)翼片被徑向地安裝到所述軸，所述軸提供阻擋件抵擋所述碎片。

5.如權(quán)利要求4所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱中的每一個(gè)具有其設(shè)置位于單個(gè)平面內(nèi)的軸。

6.如權(quán)利要求4所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱布置成使其各自的軸形成大于140°的角。

7.如權(quán)利要求4所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述翼片阱由相對(duì)于其各自軸遠(yuǎn)側(cè)延伸的相對(duì)地布置的杯形翼片形成。

8.如權(quán)利要求3所述的碎片防止系統(tǒng)，其中兩個(gè)、三個(gè)或四個(gè)翼片阱相對(duì)于平行于光軸的對(duì)稱平面對(duì)稱地布置。

9.如權(quán)利要求8所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱的旋轉(zhuǎn)軸線相對(duì)于所述光軸形成至少70°的角。

10.如權(quán)利要求1所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述發(fā)射角是至少70°。

11.如權(quán)利要求1所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述孔由設(shè)置在所述源和所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱之間的屏蔽件所限定。

12.如權(quán)利要求11所述的碎片防止系統(tǒng)，其中所述屏蔽件包括冷卻回路。

13.一種輻射系統(tǒng)，包括：

輻射源，其包括配置用以產(chǎn)生極紫外輻射的產(chǎn)生等離子體的放電源，所述放電源包括配置成提供電壓差的一對(duì)電極，以及放電系統(tǒng)，所述放電系統(tǒng)構(gòu)造并布置成在所述一對(duì)電極之間產(chǎn)生放電以便在所述電極之間的中心區(qū)域提供箍縮的等離子體；和

碎片防止系統(tǒng)，其構(gòu)造并布置用以防止從所述輻射源發(fā)射的碎片與來自所述輻射源的輻射一起傳播進(jìn)入光刻設(shè)備或在光刻設(shè)備內(nèi)部傳播，所述碎片防止系統(tǒng)包括：

孔，其限定來自所述輻射源的所述輻射的最大發(fā)射角；

第一碎片阻擋件，其具有輻射透射率，所述第一碎片阻擋件包括可旋轉(zhuǎn)翼片阱；和

第二碎片阻擋件，其具有輻射透射率，

其中所述第一碎片阻擋件配置成覆蓋所述發(fā)射角的一部分并且所述第二碎片阻擋件配置成覆蓋所述發(fā)射角的另一部分，且其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱包括：相對(duì)于所述輻射源徑向安裝的軸；和多個(gè)翼片，所述多個(gè)翼片相對(duì)于所述軸徑向安裝，提供阻擋件抵擋所述碎片，所述軸被至少部分地放置在所述發(fā)射角的外側(cè)。

14.如權(quán)利要求13所述的輻射系統(tǒng)，其中所述第二碎片阻擋件包括小片的靜態(tài)配置，其中所述小片被取向成屏蔽所述電極以使其不落入在小片之間提供的視線中，并且給來自所述中心區(qū)域的輻射提供通道。

15.如權(quán)利要求14所述的輻射系統(tǒng)，其中所述可旋轉(zhuǎn)翼片阱布置成圍繞小片的所述靜態(tài)配置旋轉(zhuǎn)。

16.如權(quán)利要求14所述的輻射系統(tǒng)，其中小片的所述靜態(tài)配置以相對(duì)于光軸位于中心的方式布置；且其中多個(gè)可旋轉(zhuǎn)翼片阱分別布置到所述小片外圍。

17.如權(quán)利要求16所述的輻射系統(tǒng)，其中兩個(gè)、三個(gè)或四個(gè)翼片阱布置在外圍。

18.如權(quán)利要求17所述的輻射系統(tǒng)，其中所述翼片阱布置成部分地插入到小片的所述靜態(tài)配置中，用于捕獲由所述旋轉(zhuǎn)翼片阱再次發(fā)射的碎片。