[發(fā)明專利]電磁干擾屏蔽裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880020166.2 | 申請日： | 2008-03-18 |
| 公開（公告）號： | CN101683024A | 公開（公告）日： | 2010-03-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 杰拉爾德·羅伯特·英格利希;保羅·克羅蒂;約瑟夫·C·博埃托 | 申請（專利權(quán)）人： | 萊爾德技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號： | H05K9/00 | 分類號： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 黨曉林 |
| 地址： | 美國密*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電磁 干擾 屏蔽 裝置 | ||
1.一種屏蔽裝置，該屏蔽裝置適合于為基板上的一個或多個電子部件提供電磁干擾屏蔽，所述屏蔽裝置包括：
框架，所述框架具有沿該框架的上部限定至少一個開口的側(cè)壁，所述框架被構(gòu)造成安裝至所述基板，以使所述側(cè)壁大致圍繞所述基板上的所述一個或多個電子部件；和
罩，所述罩可附接至所述框架，以基本上覆蓋由所述框架限定的所述至少一個開口；
所述罩包括上表面和罩構(gòu)件，所述上表面具有形成在其中的倒置凸起，所述罩構(gòu)件在鄰近所述倒置凸起的位置從所述上表面大致向下延伸，所述倒置凸起和所述罩構(gòu)件限定導(dǎo)向部，當(dāng)所述罩附接至所述框架時，所述導(dǎo)向部用于將所述框架的至少一部分引導(dǎo)到該導(dǎo)向部內(nèi)并將該至少一部分容納在該導(dǎo)向部內(nèi)；
其中，所述導(dǎo)向部構(gòu)造成當(dāng)所述罩附接至所述框架時有助于促進并且大致保持所述罩與所述框架電接觸，并且由此，所述屏蔽裝置可操作用于屏蔽所述基板上的所述一個或多個電子部件，這些電子部件位于由所述框架、所述罩以及所述基板共同限定的內(nèi)部內(nèi)，
所述框架包括唇緣，所述唇緣從所述框架的一個或多個所述側(cè)壁大致向外延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽裝置，其中，所述罩的所述倒置凸起包括溝槽，所述溝槽基本沿所述罩的所述上表面的全部周邊設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽裝置，其中，所述罩的所述導(dǎo)向部構(gòu)造成當(dāng)所述罩附接至所述框架時將所述框架的所述唇緣容納在該導(dǎo)向部內(nèi)，從而有助于大致保持所述罩與所述框架的電接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽裝置，其中，所述框架的容納在所述罩的所述導(dǎo)向部內(nèi)的所述唇緣在所述罩的所述倒置凸起處接觸所述罩的至少一部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽裝置，其中，所述罩的所述罩構(gòu)件包括向內(nèi)突出的肘部，所述肘部在所述框架的所述唇緣下至少部分地延伸，以有助于保持所述罩附接至所述框架。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的屏蔽裝置，其中，所述框架的所述唇緣包括突出部，所述突出部大致遠(yuǎn)離所述唇緣延伸，并且其中所述罩的所述罩構(gòu)件包括保持構(gòu)件，所述保持構(gòu)件具有大致位于所述肘部上方的開口，用于在該開口內(nèi)容納所述突出部以有助于保持所述罩附接至所述框架。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽裝置，其中，當(dāng)所述罩附接至所述框架時，所述屏蔽裝置包括大約1.5毫米或更小的總高度尺寸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽裝置，其中，所述框架限定用于屏蔽所述基板上的所述一個或多個電子部件的單個內(nèi)部空間。
9.一種屏蔽裝置，該屏蔽裝置適合于為基板上的一個或多個電子部件提供電磁干擾屏蔽，所述屏蔽裝置包括：
框架，所述框架具有沿該框架的上部限定至少一個開口的側(cè)壁，所述框架構(gòu)造成安裝至所述基板，以使所述側(cè)壁大致圍繞所述基板上的所述一個或多個電子部件；和
罩，所述罩可附接至所述框架，以用于基本覆蓋由所述框架限定的所述至少一個開口，所述罩包括上表面和大致從所述上表面向下延伸的罩構(gòu)件；
所述框架在構(gòu)造時被至少部分地拉伸，并且包括大致向外延伸的拉伸唇緣，所述拉伸唇緣構(gòu)造成可操作地接合所述罩的所述罩構(gòu)件，以用于可釋放地將所述罩附接至所述框架；
其中，所述屏蔽裝置可操作用于屏蔽所述基板上的所述一個或多個電子部件，這些電子部件位于由所述框架、所述罩以及所述基板共同限定的內(nèi)部內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的屏蔽裝置，其中，所述框架的拉伸唇緣與所述框架的至少一個側(cè)壁整體地形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的屏蔽裝置，其中，所述拉伸唇緣包括與該拉伸唇緣整體地形成的鎖定特征部。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的屏蔽裝置，其中，所述鎖定特征部包括與所述框架的所述拉伸唇緣大致共面定向的突出部。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的屏蔽裝置，其中，所述框架的所述罩構(gòu)件包括上部和從所述上部大致向下延伸的指部，所述指部與所述上部形成小于大約90度的角度，使得所述指部的至少一部分可以在所述框架的所述拉伸唇緣下延伸以有助于保持所述罩附接至所述框架。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的屏蔽裝置，其中，所述框架限定用于屏蔽所述基板上的所述一個或多個電子部件的單個內(nèi)部空間。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于萊爾德技術(shù)股份有限公司，未經(jīng)萊爾德技術(shù)股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200880020166.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
