[發(fā)明專利]彈性表面波裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880018400.8 | 申請日: | 2008-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN101682308A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 門田道雄;中尾武志 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H03H9/145 | 分類號: | H03H9/145;H01L41/09;H01L41/18;H03H9/25 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 張寶榮 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彈性 表面波 裝置 | ||
1.一種彈性表面波裝置,其特征在于,
其具備壓電基板和IDT,所述壓電基板由LiTaO3基板構(gòu)成并在上面形 成有多條槽,所述IDT具有由填充于所述壓電基板的上面的多條槽中的金 屬所構(gòu)成的電極指,
當(dāng)所述金屬的密度為ρ(kg/m3)、剛度為C44(N/m2)時,所述金屬滿足下 述式(1)所示的條件,
(ρ3×C44)1/2>1.95×1011????????…式(1)
其中,所述金屬材料為選自Mo、Ta、Au和Pt中的至少1種金屬或 以該金屬為主成分的合金。
2.一種彈性表面波裝置,其特征在于,
其具備壓電基板和IDT,所述壓電基板由LiTaO3基板構(gòu)成并在上面形 成有多條槽,所述IDT具有由填充于所述壓電基板的上面的多條槽中的金 屬所構(gòu)成的電極指,
所述IDT由層疊了多個金屬膜的層疊金屬膜構(gòu)成,所述多個金屬膜由 選自Al、Au、Ta、W、Pt、Cu、Ni和Mo中的多個金屬分別構(gòu)成,
當(dāng)將構(gòu)成所述層疊金屬膜的各金屬膜的膜厚T與構(gòu)成各金屬膜的金 屬密度之積的總和,除以構(gòu)成所述層疊金屬膜的各金屬膜的厚度T的總和 所得的商作為平均密度,將該平均密度作為ρ(kg/m3);將構(gòu)成所述層疊金 屬膜的各金屬膜的膜厚T與構(gòu)成各金屬膜的金屬剛度之積的總和除以構(gòu) 成所述層疊金屬膜的各金屬膜的厚度T的總和所得的商即平均剛度作為 C44(N/m2)時,所述層疊金屬膜滿足下述式(1)所示條件,
(ρ3×C44)1/2>1.95×1011????????…式(1)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的彈性表面波裝置,其還具備覆蓋所述 IDT和所述壓電基板的由SiO2或以SiO2為主成分的無機(jī)材料構(gòu)成的電介 質(zhì)膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彈性表面波裝置,其中,在將彈性表面波的 波長作為λ時,由所述電介質(zhì)膜的λ標(biāo)準(zhǔn)化而成的標(biāo)準(zhǔn)化膜厚為0.05以上、 0.3以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的彈性表面波裝置,其中,所述LiTaO3基板的切削角以歐拉角計為(0°±10°、70°~180°、0°±10°)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彈性表面波裝置,其中,所述LiTaO3基板 的切削角以歐拉角計為(0°±10°、70°~180°、0°±10°)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彈性表面波裝置,其中,所述LiTaO3基板 的切削角以歐拉角計為(0°±10°、70°~180°、0°±10°)。
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