[發(fā)明專利]脫模薄膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880016639.1
• 申請日: 2008-09-18
• 公開（公告）號: CN101678605A
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發(fā)明（設計）人: 土谷雅弘;松本弘丈;五藤靖志;森伸浩
• 申請（專利權）人: 積水化學工業(yè)株式會社
• 主分類號: B29C59/04
• 分類號: B29C59/04;B29C33/68;B32B27/00;C08J5/18
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

技術領域

本發(fā)明涉及一種兼顧抗皺性和脫模性的脫模薄膜。

背景技術

進行了如下所述的方法，即：通過對依次層疊印刷基板、熱固型粘合 劑或熱固性粘合片、覆蓋薄膜或加強板、脫模薄膜、緩沖薄膜、沖壓熱板 而成的層疊體進行加熱加壓沖壓，來制造利用覆蓋薄膜或加強板保護形成 有電路的印刷基板本體的回路面的層疊基板的方法。這樣的制造方法尤其 在柔性印刷基板等的制造中被廣泛進行。

近年來，在制造印刷基板時，存在的問題在于，在沖壓時易轉印在脫 模薄膜中發(fā)生的皺紋，從而印刷基板的成品率悪化。

針對脫模薄膜的皺紋的發(fā)生的問題，例如在專利文獻1～4中記載了 向脫模薄膜的表面賦予凹凸形狀從而防止皺紋的發(fā)生的方法。例如在專利 文獻2中記載了在將具有滿足表面粗糙度(Ra)等一定條件的凹凸形狀的 表面粗化薄膜用作印刷基板制造的脫模薄膜時，可以防止皺紋的發(fā)生。但 是，如果向脫模薄膜的表面賦予凹凸形狀，則存在起模性低下的問題。

專利文獻1：特開平6-23840號公報

專利文獻2：特開2007-83459號公報

專利文獻3：特開平2-238911號公報

專利文獻4：特開平3-61011號公報

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供一種同時具有抗皺性與起模性的脫模薄膜。

本發(fā)明的脫模薄膜中，對于至少一方的表面性狀而言，利用基于JIS B0601：2001的方法，使用前端半徑2μm、圓錐的錐角60°的觸針，在測 定力為0.75mN、截斷值λs＝2.5μm、λc＝0.8mm的條件下測定的粗糙度 曲線的最大高度粗糙度Rz為0.5～20μm且粗糙度曲線要素的平均長度 RSm為50～500μm。

以下詳述本發(fā)明。

通常，作為提高脫模薄膜的起模性的方法，已知有實施在薄膜的表面 涂布或散布脫模劑，或者在薄膜的表面實施化學的、物理的處理等脫模處 理的方法。但是，即使對于專利文獻1～4中記載的賦予了凹凸形狀的薄 膜實施這些脫模處理，也不能得到需要的脫模性能。本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，即 使向這些已賦予凹凸形狀的薄膜實施脫模處理，也不能得到需要的起模性 能的原因在于，在薄膜表面賦予的凹凸形狀的間隔過細，不能充分地實施 脫模處理直至凹部的底部，以及，由于凹凸而脫模薄膜與被脫模體之間的 接觸面積增大。另外，本發(fā)明人等還發(fā)現(xiàn)，越加大凹凸的間隔，則越提高 起模性，在薄膜的表面平坦部分越多，則越提高脫模處理的効果。

接著，本發(fā)明人等著眼于薄膜表面的凹凸形狀的粗糙度曲線，以使作 為高度方向的參數(shù)的最大高度粗糙度Rz與作為橫方向的參數(shù)的粗糙度曲 線要素的平均長度RSm在一定的范圍內的情況下，才可以兼顧高抗皺性 和起模性，以至完成本發(fā)明。

本發(fā)明的脫模薄膜中，對于至少一方的表面(以下也稱為“脫模面”。) 的性狀而言，利用基于JIS?B0601：2001的方法，使用前端半徑2μm、圓 錐的錐角60°的觸針，在測定力為0.75mN，截斷值為λs＝2.5μm，λc＝ 0.8mm的條件下測定的粗糙度曲線的最大高度粗糙度Rz的下限為0.5、 上限為20μm。如果上述粗糙度曲線的最大高度粗糙度Rz不到0.5μm，則 抗皺性差，如果超過20μm，則起模性差。上述粗糙度曲線的最大高度粗 糙度Rz的優(yōu)選上限為10μm。

此外，上述脫模面可以為本發(fā)明的脫模薄膜的至少一方的表面，也可 以為兩面。

上述脫模面在利用基于JIS?B0601：2001的方法，使用前端半徑2μm、 圓錐的錐角60°的觸針，在測定力為0.75mN，截斷值為λs＝2.5μm，λc＝ 0.8mm的條件下測定的粗糙度曲線要素的平均長度RSm的下限為50μm、 上限為500μm。如果上述粗糙度曲線要素的平均長度RSm不到50μm，則 起模性差，如果超過500μm，則抗皺性差。上述粗糙度曲線要素的平均長 度RSm的優(yōu)選下限為200μm，優(yōu)選上限為400μm。