[發明專利]無色透明樹脂薄膜的制備方法及制備裝置有效
| 申請號: | 200880014252.2 | 申請日: | 2008-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN101674923A | 公開(公告)日: | 2010-03-17 |
| 發明(設計)人: | 大石實雄;平松宗太郎;木原秀太 | 申請(專利權)人: | 三菱瓦斯化學株式會社 |
| 主分類號: | B29C41/24 | 分類號: | B29C41/24;B29C55/02;C08G73/10;C08J5/18;B29K79/00 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 | 代理人: | 周建秋;王鳳桐 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 無色 透明 樹脂 薄膜 制備 方法 裝置 | ||
1.一種無色透明樹脂薄膜的制備方法,該制備方法是通過在支撐體上 澆鑄聚酰胺酸或聚酰亞胺的有機溶劑溶液并干燥的溶液澆鑄法來制備樹脂 薄膜的方法,其中,該制備方法至少包括依次進行的下述的工序(1)、工序 (2)以及工序(3):
工序(1)為在支撐體上澆鑄聚酰胺酸或聚酰亞胺的有機溶劑溶液的工 序;
工序(2)為向支撐體上的澆鑄物噴吹含氧量為0.001-15體積%且為 100-170℃的氣體,同時使有機溶劑揮發,以自立膜的形式從支撐體剝離的 工序;
工序(3)為依次進行下述工序(3-1)和工序(3-2)的工序;
工序(3-1)為使用一個以上的噴吹加熱后的氣體的形式的干燥機, 向所述自立膜噴吹含氧量為15體積%以下且為100-250℃的氣體,同時 降低該薄膜中的有機溶劑的殘留率的工序;
工序(3-2)為使用一個以上的噴吹加熱后的氣體的形式的干燥機, 向所述自立膜噴吹含氧量為5體積%以下且為150-400℃的氣體,同時 降低該薄膜中的有機溶劑的殘留率的工序。
2.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,所述 聚酰亞胺為具有下述式(I)所示的重復單元的聚酰亞胺;所述聚酰胺酸為 具有下述通式(I’)所示的重復單元的聚酰胺酸;
式中,R為碳原子數為4-39的四價的脂肪族烴基或脂環族烴基;Φ為碳 原子數為2-39的二價的脂肪族烴基、脂環族烴基、芳香族烴基、或由它們 組合而成的基團,Φ也可以含有選自由-O-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-C(CH3)2-、 -OSi(CH3)2-、-C2H4O-以及-S-所組成的組中的至少一種的基團作為結合基團。
3.根據權利要求1或2所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中, 所述有機溶劑為選自由N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、γ-丁內酯、 二甲亞砜、六甲基磷酰胺、1,1-二氧四氫噻吩(環丁砜、四甲撐砜)、對氯酚、 間甲酚、2-氯-4-羥基甲苯、1,3-二氧雜戊環、環己酮、環戊酮、1,4-二噁烷、 ε-己內酰胺、二氯甲烷以及氯仿所組成的組中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(3-1)中,使用比在工序(2)中最后使用的氣體的溫度高1-100℃的溫 度的氣體。
5.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(3-2)中,使用比在工序(3-1)中最后使用的氣體的溫度高1-100℃的溫 度的氣體。
6.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,工序 (3-1)中所使用的干燥機為拉幅式干燥機;工序(3-2)中所使用的干燥機 為遠紅外線加熱式干燥機。
7.根據權利要求6所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(3-1)中,在通過干燥機進行干燥時,將薄膜在縱向和/或橫向上延伸至 1.01-6倍。
8.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(2)中,向澆鑄物噴吹的氣體的流速為1-36米/秒。
9.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(3-1)中,向自立膜的上面和下面噴吹的氣體的流速各自為0.1-44米/秒。
10.根據權利要求9所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(3-1)中,向自立膜的下面噴吹的氣體的流速為向上面噴吹的氣體的流 速的0.3-1.1倍。
11.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,在工 序(3-2)中,向自立膜的上面和下面噴吹的氣體的流速各自為0.1-44米/秒。
12.根據權利要求1所述的無色透明樹脂薄膜的制備方法,其中,所述 支撐體為不銹鋼制成的支撐體。
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