[發(fā)明專利]分離方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880007644.6 | 申請日: | 2008-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN101636368A | 公開(公告)日: | 2010-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·許斯比恩 | 申請(專利權(quán))人: | 通用電氣健康護(hù)理有限公司 |
| 主分類號: | C07B59/00 | 分類號: | C07B59/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 劉 鍇;付 磊 |
| 地址: | 英國白*** | 國省代碼: | 英國;GB |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分離 方法 | ||
1.一種用于分離目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物和一種或多種雜質(zhì)的方法, 該方法包括:
提供包含該目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物和一種或多種雜質(zhì)的混合物;
使該混合物通過固相萃取柱以吸附目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物并且吸 附所述一種或多種雜質(zhì),所述固相萃取柱包含聚合物表面改性的吸附劑;
使用第一洗脫溶液洗脫所述一種或多種雜質(zhì);和
使用第二洗脫溶液洗脫目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物是放射 性標(biāo)記的胸苷或者胸苷衍生物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法,其中目標(biāo)放射性標(biāo)記的化 合物是放射性標(biāo)記的3′-脫氧-3′-胸苷,或其衍生物。
4.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物 被18F放射性標(biāo)記。
5.根據(jù)權(quán)利要求2~4中任一項(xiàng)所述的方法,其中目標(biāo)放射性標(biāo)記的化 合物是3′-脫氧-3′-[18F]氟胸苷。
6.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述一種或多種雜質(zhì)是胸 苷或者胸苷衍生物。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中雜質(zhì)是2′,3′-雙脫氫-3′-脫氧胸苷。
8.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中聚合物表面改性的吸附劑 包括表面改性的聚(苯乙烯二乙烯基苯)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中吸附劑的表面被吡咯烷酮或者哌 啶酮衍生物改性。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中吡咯烷酮或者哌啶酮衍生物是2- 吡咯烷酮或者2-哌啶酮衍生物。
11.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中固相萃取柱的有效體積 是2-8cm3。
12.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中基于固相萃取柱的有效 體積,固相萃取柱負(fù)載20mg/cm3-140mg/cm3的聚合物表面改性的吸附劑。
13.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中第一和/或第二洗脫溶液 包含一種或多種選自乙腈、鏈烷醇和水的溶劑。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中鏈烷醇包括乙醇。
15.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中第一和第二洗脫溶液,各 自包含水和乙腈或者乙醇,這兩種系統(tǒng)在它們的乙腈或者乙醇比例方面不 同。
16.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中洗脫包括使第一或者第 二洗脫溶液以0.5-20mL/min-1的流速通過固相萃取柱。
17.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其進(jìn)一步包括在使混合物通 過萃取柱之前調(diào)節(jié)固相萃取柱的步驟。
18.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其進(jìn)一步包括一個(gè)或多個(gè)固 相萃取柱清洗步驟。
19.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中使用第一洗脫溶液洗脫 雜質(zhì)產(chǎn)生一種或多種級分,其包含總計(jì)低于10%的目標(biāo)放射性標(biāo)記的化 合物。
20.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中使用第二洗脫溶液洗脫 目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物產(chǎn)生一種或多種目標(biāo)化合物的純度大于90%的 級分。
21.用于合成目標(biāo)放射性標(biāo)記的化合物的方法,其包括權(quán)利要求1~20 中任一項(xiàng)所述的方法。
22.權(quán)利要求21的方法,其是自動(dòng)的。
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