[發明專利]印跡的聚合物

有效

• 申請號: 200880007241.1
• 申請日: 2008-02-13
• 公開（公告）號: CN101627073A
• 公開（公告）日: 2010-01-13
• 發明（設計）人: E·伊勒梅茲;H·比約克;J·比林;A·里斯
• 申請（專利權）人: MIP技術股份公司
• 主分類號: C08J5/00
• 分類號: C08J5/00;A61K31/00;A61K31/74;B01D15/00;B01D15/38;B01J20/00;C08F2/00;C08F2/44;C08J9/00;C08J9/26;G01N33/00;G01N33/48
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 鐘守期;唐鐵軍

本發明的技術領域

本發明涉及分子印跡聚合物、用于制備它們的方法以及所述分子印 跡聚合物在分離、化學傳感器類、藥物篩選、催化作用以及在區域選擇 性或對映選擇性合成中的用途。

背景技術

在1972年，Wulff和Sarhan(Angew.Chem.1972，84，364)介紹了 一種方法來生產具有一種內在的特異性的聚合物材料。在這些聚合物中， 在聚合反應過程中形成的空間限定的空腔是該特異性應負責的。這些聚 合物如下進行制備：首先進行的模板-單體絡合物是通過使適合的單體通 過共價鍵化學偶聯至所希望的模板而制備的。然后在一種致孔溶劑的存 在下將這些模板-單體絡合物連同一種交聯單體一起進行聚合以獲得一 種多孔聚合物。這種方法的一個重要的特征是模板和單體之間的共價鍵 是可逆的，這樣，在保持該聚合物整體性的條件下，共價的模板-聚合物 絡合物能夠進行分裂，允許模板的釋放并且因此到達所形成的空腔。如 今這類聚合物已知作為分子印跡聚合物并且以上所描述的制備方法已知 作為共價的印跡技術。

所描述的多數體系是基于乙烯基苯硼酸與含二醇的模板(例如甘油 酸或簡單的單糖類或單糖衍生物)的配對。例如，甘露糖衍生物被證明 是經歷了與乙烯基苯硼酸的可逆的酯化(圖1)并且對這種體系進行了 的幾項研究，例如，像由Wulff等在Makromol.Chem.178，2799-2815or J.Chromatogr.1978，167，171-186中所描述的。

用于共價印跡的其他可逆-共價體系包括可以形成席夫堿(例如，如 Wulff?et?al，React.Polym.1984，2，167-174所披露的)以及縮醛類或縮酮 類(例如，如Shea?and?Dougherty，J.Am.Chem.Soc.1986，108，1091-1093 所披露的)的單體。

已經對在共價印跡方法之后出現的一個進一步的發展進行了描述并 且稱為‘非共價印跡’。根據這種方法，允許單體在溶液中與模板分子非 共價地相互作用，例如，通過離子相互作用或氫鍵。這種方法具有明顯 的優于共價方法的優點，例如，分子印跡聚合物是在一個一鍋體系中進 行制備的，即，單體、模板以及引發劑在一種致孔溶劑中混合，隨后進 行聚合反應。此外，可以利用更高數目的單體來形成模板相互作用。今 天，幾百種潛在的單體是可商購的，提供一種固有的靈活性，例如，像 B.Sellergren，Molecularly?Imprinted?Polymer：Manmade?mimics?of antibodies?and?their?applications?in?analytical?chemistry，Elsevier Publishers，2001所披露的。然而，非共價鍵的固有的弱點也導致了多 個缺點，例如，經常獲得低的化學計量，即結合至單體的模板分子的低 百分比，這導致了結合位點的低產率。與共價印跡的聚合物相比，非共 價印跡的聚合物總體上具有一個更低的容量。此外，非共價的方法經常 導致結合位點的不均一，并且存在一種需要來優化用于每種印跡配方的 致孔溶劑的類型，然而，共價的印跡對在聚合反應過程中存在的致孔溶 劑的影響是更不敏感的。

Whitcombe等人(J.Am.Chem.Soc.1995，117，7105-7111)披露了一 個中間體合成路線，其中，該模板首先共價地連接至一個可共聚的部分， 并且在聚合反應以及所結合的模板水解之后，目標化合物能夠經由非共 價的相互作用再結合至該位點。