[發明專利]印跡的聚合物

有效

• 申請號: 200880007241.1
• 申請日: 2008-02-13
• 公開（公告）號: CN101627073A
• 公開（公告）日: 2010-01-13
• 發明（設計）人: E·伊勒梅茲;H·比約克;J·比林;A·里斯
• 申請（專利權）人: MIP技術股份公司
• 主分類號: C08J5/00
• 分類號: C08J5/00;A61K31/00;A61K31/74;B01D15/00;B01D15/38;B01J20/00;C08F2/00;C08F2/44;C08J9/00;C08J9/26;G01N33/00;G01N33/48
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 鐘守期;唐鐵軍

1.一種形成分子印跡聚合物的方法，包括：

a)在一種溶劑體系中，提供至少一種單體以及至少一個模板分子， 其中，所述單體以及所述模板通過可逆的自組裝形成一種共價的模板- 單體絡合物；

b)可任選地提供一種交聯的單體；

c)使所述混合物聚合；

d)除去所述至少一個模板分子；

e)可任選地，在沒有分離所述模板-單體絡合物的情況下，在聚合 反應之前在一個反應容器中至少進行步驟a)-c)；

其中，所述溶劑體系是選自一種溶劑或一種溶劑混合物，該溶劑 或溶劑混合物使得能夠形成所述可逆的自組裝體；

其中，存在促進形成所述可逆的自組裝體的一種試劑；

其中，所述試劑是一種堿性化合物；

其中，所述模板是親水模板，其在非極性溶劑中具有低溶解度； 并且

其中，所述單體是選自包括選自下組的至少一個官能團的單體， 該組的構成為：醛、硼酸、胺、羥胺、二醇、半縮醛、硫醇、二硫醇 以及酮。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述溶劑體系是一種水性 溶劑體系。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述水性溶劑體系包含有 機溶劑。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述堿性化合物是選自含 氮化合物類，或堿金屬氫氧化物類。

5.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中，在沒有分離模 板-單體絡合物的情況下，在聚合反應之前在一個反應容器中至少進行 步驟a)-c)。

6.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中，該模板是選自 下組，其構成為：似藥模板類、手性模板類、碳水化合物類、氨基酸 類、肽類、以及寡核苷酸類。

7.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中，該聚合方法是 選自下組，其構成為：溶液聚合、本體聚合、沉淀聚合、乳液聚合、 懸浮聚合、復合材料形成和接枝法、膜乳化、以及溶脹技術。

8.根據權利要求4所述的方法，其中，該含氮化合物是哌啶或氨。

9.根據權利要求4所述的方法，其中，該堿金屬氫氧化物是氫氧 化鉀、氫氧化鈉或氫氧化鋰。