[實用新型]模具的清理模板結構無效
| 申請號: | 200820303420.7 | 申請日: | 2008-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN201345355Y | 公開(公告)日: | 2009-11-11 |
| 發明(設計)人: | 張建成 | 申請(專利權)人: | 登高實業股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/56 | 分類號: | H01L21/56;B29C33/72 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 | 代理人: | 何 為 |
| 地址: | 中國臺灣臺北*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模具 清理 模板 結構 | ||
技術領域:
本實用新型涉及一種模具的清理模板結構,特別指一種應用在半導體封裝模具中,用以配合清除模穴及模具面殘膠的清理模板結構。
背景技術:
在集成電路封裝的制程中,多是以環氧樹脂等高分子材料,注入封膠模具的模穴內,待硬化后將芯片及承載器等集成電路組件形成一芯片封裝體;然而,在經過多次封膠制程步驟后,該封膠模具的模穴內通常會殘留膠體,為確保接續的封裝制成品的質量及外觀完整度,便需要針對該些殘膠做適當的清除。
在已知清模的技術中,便有一種配合清模餅作為吸膠材料的清模方式,該清模餅10為異于封膠材料的三聚氰胺樹脂等材料所構成,請參考圖1的壓餅式清模動作示意圖,其中顯示至少一適當大小的清模餅10置于上模具11及下模具12的模穴13之間,待上、下模11、12進行壓模動作后,會將至少一清模餅10壓塑進入模具的模穴13內,使整體形成一吸膠塊14并吸附殘存于模穴13表面的殘膠,隨著取下吸膠塊后同時移除殘膠,經重復數次上述動作,便可大致完成清模動作,由于程序簡單技術難度不高,在生產業界已逐漸廣為應用。
但,該已知利用清模餅清除殘膠的方式仍有其缺點,乃因清模餅壓塑后所形成的吸膠塊,時有進入上、下模間的定位塊15的情形,該情形會造成模具定位不良;此外,若模具設計上為僅上模具設有模穴的情形時,由于具模穴的模具牽制力大于不具模穴的模具(如下模具),加上模具所設的頂出桿16在清模餅壓塑過程已先行頂出,因此,吸膠塊14經常會附著在上模具11上,尚需配合手工具徒手將吸膠塊14敲下,徒手施力不當的話,更容易造成吸膠塊的碎裂,徒增清理上的困擾。有鑒于此,如何使清模餅在清模實務上能更方便業者使用,實值得相關業者加以探討解決。
實用新型內容:
本實用新型所要解決的技術問題是:針對上述現有技術的不足,提供一種模具的清理模板結構,令吸膠塊形成在該清理模板的范圍內不致進入模具結構內,同時具有壓回頂出桿總成的作用,以祈吸膠塊成型后,于開模時可輕易退模。
為解決上述技術問題,本實用新型所采用的技術方案是:一種模具的清理模板結構,該清理模板設置于一上模具與一下模具間的模具面上,其特點是:該清理模板形成具有適當厚度的一框主體,該框主體相對于該模具的頂出桿的位置,該框主體局限出一壓餅空間,該壓餅空間涵蓋該模具所設的模穴及模具面,并相對于該模具所造定位塊的位置形成有開槽。
上述模具的清理模板結構,更包含一紙釘架,鋪設于該清理模板的上方,以防止真空吸孔進料阻塞。
如此,在合模時,上模具的頂出桿受清理模板的框主體壓回,使頂出桿總成不致在清模餅壓塑過程受沾附,使吸膠塊在開模時可以輕易的整塊自行退模,受壓塑的吸膠塊也不致溢出框主體外,且可同時清潔模穴及模具表面的殘膠、臟污,進而大幅簡化清模程序及提高模具清潔度。
附圖說明:
圖1是已知壓餅式清膠動作示意圖。
圖2是清理模板與上、下模具的結構示意圖。
圖3是壓模的動作示意圖。
圖4是開模的動作示意圖。
圖5是清理模板加設紙釘架的結構示意圖。
標號說明:
10.清模餅??????????11.上模具
12.下模具??????????13.模穴
14.吸膠塊??????????15.定位塊
16.頂出桿??????????20.上模具
21.模穴???????????22.定位塊
23.頂出桿總成????????????????231.頂出桿
30.下模具??????????31.定位塊
40.清理模板??????????41.框主體
42.壓餅空間???????????????43.開槽
50.吸膠塊??????????60.紙釘架
70.清模餅
具體實施方式:
為使本實用新型的目的、結構特征及其它優點能更被了解,以下茲特舉較佳實施例說明,并配合圖式詳細說明如后。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





