[實用新型]濺射薄膜的厚度均勻性修正裝置

有效

• 申請號: 200820301326.8
• 申請日: 2008-06-27
• 公開（公告）號: CN201212059Y
• 公開（公告）日: 2009-03-25
• 發明（設計）人: 張平;周瑞山;謝強;殷志茹;張敏;羅向陽;龔漫莉;葉萍;張青;張鐸;王倩;龔國剛
• 申請（專利權）人: 貴州振華云科電子有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/34
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所
• 代理人: 李大剛

【權利要求1】一種濺射薄膜的厚度均勻性修正裝置，包括修正塊(1)和旋鈕(2)，其特征在于：修正塊(1)通過細桿(3)與旋鈕(2)固定連接；所述的修正塊(1)是由固定塊(4)和活動塊(5)兩部分連接成一個整體，形成一個中間寬兩頭窄的偏平體。

【權利要求2】根據權利要求1所述的濺射薄膜的厚度均勻性修正裝置，其特征在于：所述的固定塊(4)與細桿(3)固定連接；在固定塊(4)直邊的側面中部開有小槽(6)和螺孔(7)；在活動塊(5)直邊的中部設有薄形凸緣(8)和螺絲孔(9)；凸緣(8)可插入小槽(6)中，螺絲孔(9)與螺孔(7)有相同的尺寸；固定塊(4)和活動塊(5)通過螺絲(10)連接成一個整體。

【權利要求3】根據權利要求2所述的濺射薄膜的厚度均勻性修正裝置，其特征在于：小槽(6)的深度或者凸緣(8)的寬度可以根據需要加深或加長

【權利要求4】根據權利要求1、2或3所述的濺射薄膜的厚度均勻性修正裝置，其特征在于：在旋鈕(2)上設有指針；細桿(3)穿過刻度盤(11)的中心孔；刻度盤(11)位于旋鈕(2)和修正塊(1)之間且與旋鈕(2)、修正塊(1)分開固定，不會隨旋鈕(2)或修正塊(1)轉動。

【權利要求5】根據權利要求1或2所述的濺射薄膜的厚度均勻性修正裝置，其特征在于：細桿(3)的長度是使修正塊(1)正好位于基片(19)的中軸線上。