[實用新型]蔭罩式等離子體顯示板后基板

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820237751.5
• 申請日: 2008-12-31
• 公開（公告）號: CN201340835Y
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王曉賓;樊兆雯;張雄;朱立鋒;林青園;王保平
• 申請（專利權(quán)）人: 南京華顯高科有限公司
• 主分類號: H01J17/02
• 分類號: H01J17/02;H01J17/49
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 夏 平

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種蔭罩式等離子體顯示板，尤其是結(jié)構(gòu)簡單、制造成本低、產(chǎn)品成品率高的等離子體顯示板后基板，具體地說是一種蔭罩式等離子體顯示板后基板。

背景技術(shù)

障壁式等離子體平板顯示器與蔭罩式等離子體平板顯示器的后基板結(jié)構(gòu)有較大不同：前者后基板結(jié)構(gòu)包括后基板玻璃、尋址電極、介質(zhì)層、障壁及覆蓋在障壁側(cè)面和介質(zhì)層上的三基色熒光粉層；后者后基板結(jié)構(gòu)包括后基板玻璃、尋址電極、介質(zhì)層、用于保護介質(zhì)的氧化鎂層。障壁式等離子體平板顯示器后基板上的熒光粉覆蓋在介質(zhì)層上，起到保護介質(zhì)的作用，而蔭罩式等離子體平板顯示器后基板上的介質(zhì)由于結(jié)構(gòu)的不同，沒有熒光粉的覆蓋，因此需要制作一層氧化鎂層以保護介質(zhì)。后基板介質(zhì)層上制作的氧化鎂層增加了蔭罩式等離子體平板顯示器的制造工序。

目前通常采用的是真空鍍膜法制備薄膜氧化鎂層，這種方法制得的氧化鎂層即能保證基板透明性又能保護介質(zhì)，真空鍍膜法是障壁式等離子體平板顯示器前基板氧化鎂層的主要制作方法，同樣也適用于蔭罩式等離子體平板顯示器的前后基板氧化鎂層制作。由于蔭罩式等離子體平板顯示器的后基板不需要很好的透明性，所以其后基板采用真空鍍膜法制作存在以下不足之處：①制造工序復(fù)雜，不利于產(chǎn)品成品率的增加；②由于氧化鎂層采用真空鍍膜法制備，需要價格昂貴的連續(xù)真空鍍膜設(shè)備，相對于制造障壁式等離子體平板顯示器后基板而言，增加了設(shè)備成本投入和產(chǎn)品制造成本；③真空鍍膜法制得的氧化鎂薄膜易受外界環(huán)境影響，對儲存環(huán)境有嚴格的要求，增加了產(chǎn)品制造成本。因此，現(xiàn)有的蔭罩式等離子體顯示板后基板的制作不能達到制造簡單、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品成品率高的要求，不能滿足現(xiàn)有生產(chǎn)的需要。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型的目的是針對現(xiàn)有的絲網(wǎng)印刷、刮涂、干膜壓制等厚膜工藝制造的蔭罩式等離子體顯示板后基板的氧化鎂層粘結(jié)性不好的問題，提出一種結(jié)構(gòu)簡單、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品成品率高蔭罩式等離子體顯示板后基板。

本實用新型的技術(shù)方案是：

一種蔭罩式等離子體顯示板后基板，它包括后基板玻璃、尋址電極、介質(zhì)層和氧化鎂層，尋址電極在后基板玻璃上，介質(zhì)層在后基板玻璃和尋址電極上，氧化鎂層在介質(zhì)層上，其特征是它還包括粘結(jié)層，粘結(jié)層在介質(zhì)層和氧化鎂層之間。

本實用新型的粘結(jié)層的材料為低熔點玻璃，厚度為1～10微米。

本實用新型的氧化鎂層的厚度為1～5微米。

本實用新型的有益效果：

1、本實用新型在后基板的介質(zhì)層和氧化鎂層之間設(shè)有一層粘結(jié)層，粘結(jié)層用以加強氧化鎂層與介質(zhì)層的粘結(jié)，粘結(jié)效果好，結(jié)構(gòu)簡單，降低了因制造工序復(fù)雜引起的次品問題。

2、本實用新型采用粘結(jié)層改變絲網(wǎng)印刷法等厚膜工藝制作的氧化鎂層粘結(jié)性不好的問題取代真空鍍膜法制作氧化鎂層，采用絲網(wǎng)印刷法等厚膜工藝制造，不再需要價格昂貴的連續(xù)真空鍍膜設(shè)備來形成氧化鎂介質(zhì)保護層，大大降低設(shè)備成本投入和產(chǎn)品制造成本。

3、本實用新型的后基板氧化鎂層屬于厚膜，不像真空鍍膜法形成的氧化鎂薄膜那樣對儲存環(huán)境有嚴格的要求，從而降低產(chǎn)品制造成本，提高了成品率。

附圖說明

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

1.后基板玻璃；2.尋址電極；3.介質(zhì)層；4.粘結(jié)層；5.氧化鎂層。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖1和實施例對本實用新型作進一步的說明。

如圖1所示，一種蔭罩式等離子體顯示板后基板，它包括后基板玻璃1、尋址電極2、介質(zhì)層3和氧化鎂層5，尋址電極2在后基板玻璃1上，介質(zhì)層3在后基板玻璃1和尋址電極2上，氧化鎂層5在介質(zhì)層3上，其特征是它還包括粘結(jié)層4，粘結(jié)層4在介質(zhì)層3和氧化鎂層5之間。

本實用新型的粘結(jié)層4可采用厚膜工藝制備，材料為低熔點玻璃，厚度為1～10微米。

本實用新型的氧化鎂層5的厚度為1～5微米，采用絲網(wǎng)印刷、刮涂、干膜壓制等厚膜工藝制備，將氧化鎂粉與粘結(jié)劑配制成絲網(wǎng)印刷用漿料后印制于后基板粘結(jié)層上或采用刮涂工藝涂制在后基板粘結(jié)層上或制成干膜壓制在粘結(jié)層上，再經(jīng)高溫?zé)Y(jié)而成。

實施例一