[實用新型]鍍膜玻璃用真空磁控鍍膜室

有效

• 申請號: 200820216200.0
• 申請日: 2008-11-19
• 公開（公告）號: CN201326011Y
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發明（設計）人: 趙子東
• 申請（專利權）人: 蘇州新愛可鍍膜設備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 張家港市高松專利事務所
• 代理人: 黃春松

技術領域

本實用新型涉及到一種鍍膜玻璃用真空磁控鍍膜室。

背景技術

傳統的鍍膜玻璃真空鍍膜室采用一個腔室，由于腔室很大，在對這種腔室進行抽真空時只能設置幾個定點的抽氣口，在抽氣時，外圍的空氣很快被抽走，中間的空氣再慢慢的流向四周，最后通過抽氣孔抽走，這樣就會產生真空抽氣不均勻現象，極易造成鍍膜膜層的不均勻性。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：將提供一種抽氣均勻的鍍膜玻璃用真空磁控鍍膜室。

為解決上述問題，本實用新型采用的技術方案是：鍍膜玻璃用真空磁控鍍膜室，包括：腔室，在腔室內設置有三個隔離通道，隔離通道將腔室分割成四個區域，在每個隔離通道上設置有玻璃輸送通道，在構成隔離通道的兩側墻板上以及構成玻璃輸送通道的上、下隔板上開設有抽氣孔，在腔室內還設置有兩個抽氣通道，抽氣通道分布在隔離通道兩端并與隔離通道內的空腔相通，抽氣通道的兩端與腔室上的抽氣口相通。

本實用新型的優點是：通過采用隔離通道，從通常兩側抽氣創新為上、下、左、右等多方位對腔室抽氣，有效提高了真空抽氣的均勻性，防止鍍膜室局部抽氣不均勻現象的發生。

附圖說明

圖1是本實用新型所述的鍍膜玻璃用真空磁控鍍膜室俯視方向的結構原理示意圖；

圖2是圖1中所述隔離通道的A-A剖視結構放大圖。

圖中：1、腔室，2、隔離通道，3、抽氣通道，4、空腔，41、墻板，42、墻板，5、抽氣孔，6、玻璃輸送通道，61、隔板，62、隔板、7、抽氣口。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例對本實用新型所述的技術方案、及其工作原理和優點作進一步的描述。

如圖1、圖2所示，一種鍍膜玻璃用真空磁控鍍膜室，包括：腔室1，在腔室1內設置有三個隔離通道2，隔離通道2將腔室1分割成四個區域，在每個隔離通道2上設置有玻璃輸送通道6，在構成隔離通道2的兩側墻板41、42上以及構成玻璃輸送通道6的上、下隔板61、62上開設有抽氣孔5，在腔室1內還設置有兩個抽氣通道3，抽氣通道3分布在隔離通道2兩端并與隔離通道2內的空腔4相通，抽氣通道3的兩端與腔室1上的抽氣口7相通。

本實用新型的工作原理是：當玻璃從腔室1的左邊被輸送過來進入腔室1后，在通過設置在隔離通道2上的玻璃輸送通道6時，設置在腔室1外部的擴散泵通過抽氣口7對腔室1進行抽氣，空氣按照圖1中箭頭所示方向從設置在墻板41、42和隔板61、62上的抽氣孔5進入空腔4，然后流向隔離通道2的兩端進入抽氣管道3，最后從抽氣管道3的兩端的抽氣孔7排出。

本實用新型由擴散泵直接對鍍膜室抽氣改為對玻璃的上、下表面和鍍膜室同時抽氣，均化了抽氣的均勻性，從根本上降低了真空抽氣不均勻的現象。