[實(shí)用新型]用在塑材上濺射金屬中定位的夾具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820199343.5
• 申請日: 2008-11-26
• 公開（公告）號(hào): CN201317806Y
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林政乾
• 申請（專利權(quán)）人: 柏霆(蘇州)光電科技有限公司;柏騰科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 孫仿衛(wèi)

1、一種用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，該夾具用于將塑材工件(3)在進(jìn)行真空濺射金屬沉積薄膜工藝中進(jìn)行定位，所述的塑材工件(3)包括鍍膜區(qū)和非鍍膜區(qū)，其特征在于：該夾具包括上框(1)、底座(2)、遮蔽裝置、真空離子減弱裝置，所述的底座(2)上設(shè)置有用于將所述的塑材工件(3)定位在其上的定位裝置，所述的底座(2)和上框(1)上設(shè)置有相互配合作用的定位機(jī)構(gòu)，該定位機(jī)構(gòu)能對所述的底座(2)和上框(1)之間進(jìn)行定位；所述的遮蔽裝置用于對所述的塑材工件(3)的非鍍膜區(qū)進(jìn)行遮蔽，所述的遮蔽裝置的尺寸和位置與所述塑材工件(3)上的非鍍膜區(qū)的尺寸和位置相對應(yīng)；所述的真空離子減弱裝置用來減弱金屬離子對所述的塑材工件(3)上的鍍膜區(qū)的較薄弱易產(chǎn)生變形部位的濺射。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，其特征在于：所述的定位裝置包括設(shè)置在所述的底座(2)上的多個(gè)定位銷(7)，所述的多個(gè)定位銷(7)與所述的塑材工件(3)上的多個(gè)圓孔相配合，當(dāng)所述的塑材工件(3)定位在所述的底座(2)上時(shí)，所述的各定位銷(7)分別插在所述塑材工件(3)的相應(yīng)圓孔內(nèi)。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，其特征在于：所述的定位機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在底座上的至少一組角形立柱(4)，該角形立柱(4)的內(nèi)側(cè)面形成一光滑的內(nèi)弧面(5)，所述的上框(1)在位于與所述角形立柱(4)相對應(yīng)的位置設(shè)置有外弧面(6)，當(dāng)所述底座(2)與上框(1)相配合作用時(shí)，所述內(nèi)弧面(5)、外弧面(6)相貼緊。

4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，其特征在于：在所述的遮蔽裝置中，一部分遮蔽裝置是一體設(shè)置在所述的上框(1)的，另一部分遮蔽裝置為獨(dú)立設(shè)置。

5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，其特征在于：所述的真空離子減弱裝置包括遮蔽塊(10)、遮蔽隔離網(wǎng)(11)，所述的真空離子減弱裝置設(shè)置在所述的塑材工件(3)上的鍍膜區(qū)的較薄弱易產(chǎn)生變形部位的上方。

6、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，其特征在于：所述的遮蔽裝置上設(shè)置有斜向引導(dǎo)角(15)。

7、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用在塑材上濺射金屬中定位的夾具，其特征在于：所述的底座(2)下設(shè)置有多個(gè)支撐裝置，所述的支撐裝置包括支撐柱(12)、支撐塊(13)，所述的支撐塊(13)套在所述的支撐柱(12)上用于支撐所述的底座(2)。