[實用新型]一種雙端多室真空鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200820186013.2
• 申請日: 2008-10-10
• 公開（公告）號: CN201272825Y
• 公開（公告）日: 2009-07-15
• 發明（設計）人: 張明富;朱群;王萬忠
• 申請（專利權）人: 江蘇太陽雨太陽能有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 南京眾聯專利代理有限公司
• 代理人: 王彥明

技術領域

本實用新型涉及一種適合于工件大批量生產的真空鍍膜系統，特別是一種雙端多室真空鍍膜裝置。

背景技術

在目前應用于管狀、片狀及柱狀等小件物品鍍膜的真空裝置，多為一個鍍膜室配一套真空獲得系統而組成的單機真空鍍膜設備。在生產過程中，一個工作周期主要包括裝工件、抽真空、鍍膜、充大氣、卸工件等五個步驟。由此看出，在每一個工作周期中，都要對鍍膜室抽一次真空、充一次空氣，這種周期式的鍍膜方式，對能源浪費的同時生產效率也大大降低且工藝控制難度增加。真空狀態下制備的膜層，一般對鍍膜的本底真空度要求較高，通常在10^-3Pa數量級以上。一臺單機設備從大氣抽到10^-3Pa數量級的真空狀態，需要耗費十幾甚至幾十分鐘，占整個工作周期的一半，甚至還要多。而真空獲得系統的耗電量在整臺鍍膜設備總的耗電量中，占相當大的比例。所以抽真空的時間越長，設備的工作周期就越長，能耗就越大、效率就越低、工件的單位成本就越高。鍍膜室反復地經常暴露大氣，對鍍膜環境造成了不同程度的污染，使工藝運行的重復性變差、穩定性降低，質量控制增加了難度。

現有技術中，ZL200520130173.1的中國專利，它公開了一種多個鍍膜倉共用一個移動式切換倉的真空鍍膜系統，移動式切換倉需要分別與各個鍍膜倉對接。對接后工件架需要從鍍膜室的頂部取出，然后與切換倉內的工件架進行互換。其不足之處在于：首先是切換倉與鍍膜倉上下疊加，高度最少超過6米，操作不方便，占用空間。而且切換倉內要能容下兩副工件架，其體積龐大，增加了抽真空的負擔和能耗。工件架在鍍膜室內上升以及在切換倉進行互換不容易實現。

發明內容

本實用新型要解決的技術問題是針對現有技術的不足，提出了一種能耗低、效率高、提高了膜層質量而且容易實現的雙端多室真空鍍膜裝置。

本實用新型要解決的技術問題是通過以下技術方案來實現的，一種雙端多室真空鍍膜裝置，其特點是：包括鍍膜室、真空預備室和工件架車，在真空預備室的邊側部設有工件裝卸臺，真空預備室內并排設有兩條工件架車轉運軌道，在真空預備室的左右兩端各連接有至少一個鍍膜室，在所述的鍍膜室內設有環形軌道，每一個鍍膜室內的環形軌道分別通過軌道切換機構與上述真空預備室內的兩條工件架車轉運軌道對接，工件裝卸臺設有“U”形傳輸軌道，“U”形傳輸軌道的兩端與真空預備室內兩條工件架車轉運軌道橫向相交，在相交處設有變軌裝置和軌道槽，真空預備室與鍍膜室和工件裝卸臺之間分別設有真空鎖和門閥，真空預備室和每個鍍膜室都與抽真空系統相連接。

本實用新型主要涉及到的是鍍膜室、真空預備室、工件裝卸臺的組合的結構形式及工作的流程控制方式，借助中間的真空預備室，可實現單機節拍式真空鍍膜。在生產過程中鍍膜室不暴露大氣，預備真空室的抽真空過程和兩端鍍膜室的鍍膜過程可同時進行，鍍膜工藝的運行周期即為工件生產的工作周期。本實用新型解決了目前單機鍍膜設備，所存在的鍍膜室頻繁暴露大氣、抽真空時間長等影響效率和質量的問題。

與現有技術相比，本實用新型具有以下幾項有益的效果：①縮短了生產周期，提高了生產效率，降低了能源消耗；②鍍膜室杜絕了大氣污染，提高了膜層質量；③結構簡單，操作方便，占地面積小，易于大規模的推廣使用。

附圖說明

圖1為本實用新型設有兩個鍍膜室的結構示意圖。

圖2為真空預備室兩端連接四個鍍膜室的結構示意圖。

具體實施方式

一種雙端多室真空鍍膜裝置，包括鍍膜室、真空預備室和工件架車，在真空預備室的邊側部設有工件裝卸臺，真空預備室內并排設有兩條工件架車轉運軌道，在真空預備室的左右兩端各連接有至少一個鍍膜室，在所述的鍍膜室內設有環形軌道，每一個鍍膜室內的環形軌道分別通過軌道切換機構與上述真空預備室內的兩條工件架車轉運軌道對接，工件裝卸臺設有“U”形傳輸軌道，“U”形傳輸軌道的兩端與真空預備室內兩條工件架車轉運軌道橫向相交，在相交處設有變軌裝置和軌道槽，真空預備室與鍍膜室和工件裝卸臺之間分別設有真空鎖和門閥，真空預備室和每個鍍膜室都與抽真空系統相連接。軌道切換機構包括傳輸軌道以及在變換軌道處設置的變軌裝置。

下面結合附圖對本發明鍍膜方法、流程方式，作詳細的說明。如圖1所示：