[實用新型]一種高發(fā)光效率的蔭罩式等離子體顯示板

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820185390.4
• 申請日: 2008-09-24
• 公開（公告）號: CN201256137Y
• 公開（公告）日: 2009-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李青;楊蘭蘭;屠彥;劉杰;張子南;王保平
• 申請（專利權(quán)）人: 東南大學
• 主分類號: H01J17/49
• 分類號: H01J17/49;H01J17/04
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標代理有限公司
• 代理人: 陸志斌

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種蔭罩式等離子體顯示板，尤其涉及到一種高發(fā)光效率的蔭罩式等離子體顯示板，具體地說是一種在后基板制備立體尋址電極的蔭罩式等離子體顯示板。

背景技術(shù)

目前采用的蔭罩式等離子體顯示板主要包括前基板、后基板和蔭罩。前基板從玻璃基板起，分別是掃描電極、介質(zhì)層以及在介質(zhì)層表面形成的保護層；后基板從玻璃基板起，分別是與掃描電極垂直的尋址電極，介質(zhì)層以及在介質(zhì)層上形成的保護層；夾在前、后基板中間的蔭罩是由導電材料(例如鐵或其合金)加工而成的包含網(wǎng)孔陣尋址的金屬薄網(wǎng)板。將上述前基板、蔭罩和后基板組裝封接后充入預(yù)定的工作氣體，譬如各種惰性氣體，即形成了蔭罩式等離子體顯示板。目前蔭罩式等離子體顯示板采用對向放電的工作原理，其工作原理如下：首先，在尋址電極組和掃描電極之間加一高壓窄脈沖或斜坡脈沖擦除信號，擦除上次放電積累的壁電荷；然后在掃描電極上加一高脈沖尋址電壓選中該行，同時在尋址電極上施加該行的數(shù)據(jù)脈沖，該數(shù)據(jù)脈沖電壓幅度與掃描電壓之差高于掃描電極與尋址電極之間的著火電壓，控制觸發(fā)放電，從而在該行形成與所需顯示信息對應(yīng)的壁電荷分布；在逐行完成整屏圖象初始放電之后，在掃描電極組和尋址電極之間施加維持放電脈沖，以顯示該幀圖象。如此循環(huán)即可逐幀顯示圖象。對彩色蔭罩式等離子體顯示板而言，蔭罩的面孔為大孔，與前基板面對放置，內(nèi)壁涂敷三基色熒光粉，蔭罩的底孔為小孔，小孔間由通槽聯(lián)通，底孔與后基板面對放置，每一放電單元中氣體放電產(chǎn)生的真空紫外光，激發(fā)不同熒光材料發(fā)出相應(yīng)的三基色光。上述蔭罩式等離子體顯示板中存在如下問題：1)蔭罩網(wǎng)板在制備工程中為保證面孔和底孔的尺寸精度，必須采用雙面刻蝕工藝，面孔的刻蝕深度與底孔刻蝕深度比與面孔開口與低孔開口比相關(guān)，除此之外，面孔的刻蝕深度還與蔭罩網(wǎng)板的強度要求有關(guān)，通常面孔刻蝕深度占蔭罩厚度的1/2～2/3，這樣造成了面孔和底孔結(jié)構(gòu)的不對稱。2)由于采用對向型放電結(jié)構(gòu)，放電空間集中在上下基板的電極之間，即電場作用的距離是整個蔭罩厚度，而熒光粉只能涂覆在面孔的內(nèi)壁表面，但作用在底孔空間的電場依然存在，此電場作用對可見光的產(chǎn)生幾乎是無效的，導致了發(fā)光效率較低。3)底孔空間小，無法涂覆熒光粉，在此放電空間產(chǎn)生的深紫外光幾乎無法激發(fā)面孔內(nèi)壁的熒光粉發(fā)光，使蔭罩式等離子體顯示板亮度和發(fā)光效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型的目的是針對現(xiàn)有的蔭罩式等離子體顯示板采用對向型放電產(chǎn)生的問題，實用新型一種提高亮度和發(fā)光效率的蔭罩式等離子體顯示板，在后基板制備立體掃描電極，填堵底孔空間，同時降低對向電極作用距離，以提高發(fā)光效率。

本實用新型的技術(shù)方案是：

一種高發(fā)光效率的蔭罩式等離子體顯示板，包括前基板、后基板、蔭罩，其中蔭罩封裝在前基板、后基板之間，所述的前基板包括前襯底玻璃基板、掃描電極、前基板介質(zhì)層、前基板保護層，掃描電極平行在前襯底玻璃基板上，前基板介質(zhì)層覆蓋在掃描電極上，前基板保護層覆蓋在前基板介質(zhì)層上；所述的后基板包括后襯底玻璃基板、立體尋址電極、后基板介質(zhì)層和后基板保護層，立體尋址電極平行設(shè)置在后襯底玻璃基板上，后基板介質(zhì)層覆蓋在立體尋址電極上，后基板保護層則覆蓋在后基板介質(zhì)層上；立體尋址電極與掃描電極成空間垂直正交；蔭罩為一厚度d為0.1～1.0mm的包含面孔陣列和底孔陣列的導電板，面孔與底孔屬于同一個放電單元的上下表面，前基板相對的面孔的面積是其與后基板相對的底孔面積的10～20倍，每一個面孔的上開口寬度為底孔下開口寬度的2～4倍；其特征在于：每一個面孔的深度是底孔的深度的2～4倍，掃描電極與蔭罩上的面孔的上開口面對放置并置于中間位置，立體尋址電極與蔭罩上的底孔的下開口呈嵌入狀態(tài)并置于中間位置；所述掃描電極與立體尋址電極組成介質(zhì)阻擋型交流放電型的基本單元，立體尋址電極及后基板介質(zhì)層嵌入在底孔的空間里，使整體放電空間壓縮在面孔的空間里，掃描電極與立體尋址電極的最短作用距離接近面孔的深度，也就是說立體電極填堵了底孔的高度，使兩電極間的距離變短，近似為面孔的深度，在面孔內(nèi)壁涂覆熒光粉層。

比較好的是，本實用新型的立體尋址電極為高而窄的立體電極陣列，構(gòu)成向底孔空間深入的立體尋址電極，覆蓋在立體尋址電極上面的后基板介質(zhì)層的厚度與覆蓋在前基板上的前基板介質(zhì)層厚度相同。

比較好的是，本實用新型的立體尋址電極及后基板介質(zhì)層的高度是底孔深度的0.3～0.7倍，立體尋址電極及后基板介質(zhì)層的總寬度是下開口寬度的0.3～0.5倍，使立體尋址電極及介質(zhì)層構(gòu)成的陣列與底孔及連接底孔間的通槽呈嵌入狀態(tài)。