[實(shí)用新型]一種多層介質(zhì)雙銀層低輻射膜

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200820158805.9
• 申請(qǐng)日: 2008-10-17
• 公開（公告）號(hào): CN201300572Y
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳理;李國(guó)強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南玉豐真空科學(xué)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B32B9/04
• 分類號(hào): B32B9/04;B32B15/04
• 代理公司: 湘潭市雨湖區(qū)創(chuàng)匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 左祝安

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種雙銀低輻射膜。

背景技術(shù)

目前，市場(chǎng)上的低輻射鍍膜產(chǎn)品大體可分為兩大類：一類是高可見光透過率，高遮陽系數(shù)；另一類是低可見光透過率，較低的遮陽系數(shù)。市場(chǎng)還缺乏一種產(chǎn)品，具有高的可見光透過率，同時(shí)滿足低的遮陽系數(shù)，即達(dá)到較高的選擇系數(shù)。

傳統(tǒng)的低輻射鍍膜產(chǎn)品的膜結(jié)構(gòu)一般為：

玻璃/底層介質(zhì)膜/阻擋層/Ag層/阻擋層/頂層介質(zhì)層；

或：玻璃/底層介質(zhì)膜/Ag層/阻擋層/中間層介質(zhì)膜/Ag層/阻擋層/頂層介質(zhì)層。

上述兩種結(jié)構(gòu)中，有一個(gè)共同的特點(diǎn)，介質(zhì)膜均采用單層。產(chǎn)品不能同時(shí)兼顧透過率和遮陽系數(shù)兩個(gè)指標(biāo)，選擇系數(shù)只能達(dá)到1.4。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種具有較高的透過率，同時(shí)具有較低遮陽系數(shù)的多層介質(zhì)雙銀層低輻射膜。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：采用下述膜結(jié)構(gòu)制成的膜層：基片/多層介質(zhì)膜層1/Ag層/阻擋層/多層介質(zhì)膜層2/Ag層/阻擋層/多層介質(zhì)膜層3/Si₃N₄。所述多層介質(zhì)膜層1、2或3的組成模式包括：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy。所述多層介質(zhì)膜層1、2和3采用相同的膜結(jié)構(gòu)，即均采用相同的任意一種膜結(jié)構(gòu)。所述多層介質(zhì)膜層1、2和3采用不同的膜結(jié)構(gòu)，即所述多層介質(zhì)膜層1、2和3分別采用包括TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy中的任意2種或3種膜結(jié)構(gòu)。所述阻擋層1、或2的膜層材質(zhì)包括：NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx。所述阻擋層1、或2的膜層材質(zhì)采用相同的膜結(jié)構(gòu)，即均采用相同的任意一種膜結(jié)構(gòu)。所述阻擋層1、或2的膜層材質(zhì)采用不同的膜結(jié)構(gòu)，即所述阻擋層1、或2的膜層材質(zhì)分別采用包括NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx中的任意2種膜結(jié)構(gòu)。所述基片的材質(zhì)包括玻璃、或塑料。

本實(shí)用新型的有益效果是：它通過運(yùn)用真空磁控濺射鍍膜方法生產(chǎn)出雙銀低輻射鍍膜產(chǎn)品。即采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射沉積多層介質(zhì)膜層，用單旋轉(zhuǎn)陰極、直流磁控濺射沉積Ag層和阻擋層。該膜結(jié)構(gòu)可鍍膜在玻璃上，也可鍍膜在軟基片上。該產(chǎn)品具有較高的透過率，同時(shí)具有較低的遮陽系數(shù)，且便于外觀顏色和室內(nèi)顏色的調(diào)整，它的透過率達(dá)到81％；遮陽系數(shù)達(dá)到0.4。它可廣泛應(yīng)用于建筑領(lǐng)域和車船窗戶風(fēng)擋玻璃等領(lǐng)域；也可以鍍制在軟基片上，作為貼膜之用。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明如下：

本實(shí)用新型為滿足市場(chǎng)對(duì)高選擇系數(shù)雙銀低輻射產(chǎn)品的需求，本實(shí)用新型提供了一種多層介質(zhì)膜的雙銀低輻射產(chǎn)品。該產(chǎn)品的膜結(jié)構(gòu)為：玻璃或軟基片/多層介質(zhì)膜層1/Ag層1/阻擋層1/多層介質(zhì)膜層2/Ag層2/阻擋層2/多層介質(zhì)膜層3/Si₃N₄。所述多層介質(zhì)膜層1、2或3的組成可以是：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy等。

所述阻擋層的膜層可以采用：NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx等。

實(shí)施例1，本實(shí)用新型的多層介質(zhì)膜層采用：TiOx/SnOy/ZnO:Al，阻擋層的膜層采用：NiCrOx，構(gòu)成本實(shí)用新型的膜結(jié)構(gòu)為：玻璃/TiOx/SnOy/ZnO:Al/Ag/NiCrOx/TiOx/SnOy/ZnO:Al/Ag/NiCrOx/TiOx/SnOy/ZnO:Al/Si₃N₄。本應(yīng)用實(shí)例的生產(chǎn)工藝為：

(1)基片清洗；

(2)進(jìn)入真空濺射區(qū)；