[實用新型]一種多層介質雙銀層低輻射膜

無效

• 申請號: 200820158805.9
• 申請日: 2008-10-17
• 公開（公告）號: CN201300572Y
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 陳理;李國強
• 申請（專利權）人: 湖南玉豐真空科學技術有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B15/04
• 代理公司: 湘潭市雨湖區創匯知識產權代理事務所
• 代理人: 左祝安

技術領域

本實用新型涉及一種雙銀低輻射膜。

背景技術

目前，市場上的低輻射鍍膜產品大體可分為兩大類：一類是高可見光透過率，高遮陽系數；另一類是低可見光透過率，較低的遮陽系數。市場還缺乏一種產品，具有高的可見光透過率，同時滿足低的遮陽系數，即達到較高的選擇系數。

傳統的低輻射鍍膜產品的膜結構一般為：

玻璃/底層介質膜/阻擋層/Ag層/阻擋層/頂層介質層；

或：玻璃/底層介質膜/Ag層/阻擋層/中間層介質膜/Ag層/阻擋層/頂層介質層。

上述兩種結構中，有一個共同的特點，介質膜均采用單層。產品不能同時兼顧透過率和遮陽系數兩個指標，選擇系數只能達到1.4。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種具有較高的透過率，同時具有較低遮陽系數的多層介質雙銀層低輻射膜。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：采用下述膜結構制成的膜層：基片/多層介質膜層1/Ag層/阻擋層/多層介質膜層2/Ag層/阻擋層/多層介質膜層3/Si₃N₄。所述多層介質膜層1、2或3的組成模式包括：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy。所述多層介質膜層1、2和3采用相同的膜結構，即均采用相同的任意一種膜結構。所述多層介質膜層1、2和3采用不同的膜結構，即所述多層介質膜層1、2和3分別采用包括TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy中的任意2種或3種膜結構。所述阻擋層1、或2的膜層材質包括：NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx。所述阻擋層1、或2的膜層材質采用相同的膜結構，即均采用相同的任意一種膜結構。所述阻擋層1、或2的膜層材質采用不同的膜結構，即所述阻擋層1、或2的膜層材質分別采用包括NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx中的任意2種膜結構。所述基片的材質包括玻璃、或塑料。

本實用新型的有益效果是：它通過運用真空磁控濺射鍍膜方法生產出雙銀低輻射鍍膜產品。即采用雙旋轉陰極、中頻反應磁控濺射沉積多層介質膜層，用單旋轉陰極、直流磁控濺射沉積Ag層和阻擋層。該膜結構可鍍膜在玻璃上，也可鍍膜在軟基片上。該產品具有較高的透過率，同時具有較低的遮陽系數，且便于外觀顏色和室內顏色的調整，它的透過率達到81％；遮陽系數達到0.4。它可廣泛應用于建筑領域和車船窗戶風擋玻璃等領域；也可以鍍制在軟基片上，作為貼膜之用。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖2是實施例1的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合實施例對本實用新型作進一步說明如下：

本實用新型為滿足市場對高選擇系數雙銀低輻射產品的需求，本實用新型提供了一種多層介質膜的雙銀低輻射產品。該產品的膜結構為：玻璃或軟基片/多層介質膜層1/Ag層1/阻擋層1/多層介質膜層2/Ag層2/阻擋層2/多層介質膜層3/Si₃N₄。所述多層介質膜層1、2或3的組成可以是：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy等。

所述阻擋層的膜層可以采用：NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx等。

實施例1，本實用新型的多層介質膜層采用：TiOx/SnOy/ZnO:Al，阻擋層的膜層采用：NiCrOx，構成本實用新型的膜結構為：玻璃/TiOx/SnOy/ZnO:Al/Ag/NiCrOx/TiOx/SnOy/ZnO:Al/Ag/NiCrOx/TiOx/SnOy/ZnO:Al/Si₃N₄。本應用實例的生產工藝為：

(1)基片清洗；

(2)進入真空濺射區；