[實用新型]一種多層介質雙銀層低輻射膜

無效

• 申請號: 200820158805.9
• 申請日: 2008-10-17
• 公開（公告）號: CN201300572Y
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 陳理;李國強
• 申請（專利權）人: 湖南玉豐真空科學技術有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B15/04
• 代理公司: 湘潭市雨湖區創匯知識產權代理事務所
• 代理人: 左祝安

1、一種多層介質雙銀層低輻射膜，其特征在于其膜結構為：基片/多層介質膜層1/Ag層/阻擋層/多層介質膜層2/Ag層/阻擋層/多層介質膜層3/Si₃N₄。

2、根據權利要求1所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述多層介質膜層1、2或3的組成模式包括：TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy。

3、根據權利要求2所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述多層介質膜層1、2和3采用相同的膜結構，即均采用相同的任意一種膜結構。

4、根據權利要求2所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述多層介質膜層1、2和3采用不同的膜結構，即所述多層介質膜層1、2和3分別采用包括TiOx/SnOy/ZnO:Al、SnOy/Si₃N₄/SnOy、ZnOx/SnOy/ZnOx、TiOx/SnOy/TiOx、或NbOy/Si₃N₄/NbOy中的任意2種或3種膜結構。

5、根據權利要求1所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述阻擋層1、或2的膜層材質包括：NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx。

6、根據權利要求5所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述阻擋層1、或2的膜層材質采用相同的膜結構，即均采用相同的任意一種膜結構。

7、根據權利要求5所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述阻擋層1、或2的膜層材質采用不同的膜結構，即所述阻擋層1、或2的膜層材質分別采用包括NiCr、Nb、Ti、NiCrOx、或NbOx中的任意2種膜結構。

8、根據權利要求1所述的多層介質雙銀層低輻射膜，其特征是：所述基片的材質包括玻璃、或塑料。