[實用新型]硅片單片清洗工藝腔體結構

在審

• 申請號: 200820140154.0
• 申請日: 2008-10-15
• 公開（公告）號: CN201364880Y
• 公開（公告）日: 2009-12-16
• 發明（設計）人: 侯瑞兵
• 申請（專利權）人: 北京中聯科偉達技術股份有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/02;H01L21/306;B08B3/00
• 代理公司: 北京市商泰律師事務所
• 代理人: 毛燕生

技術領域

本實用新型涉及硅片單片清洗工藝腔體結構，屬于半導體硅片清洗領域。

背景技術

現有的單片硅片清洗腔體結構主要有載片臺移動和藥液收集器移動兩種。載片臺的上下移動，因旋轉軸的長短不同，就造成旋轉不均勻，從而造成清洗不均勻。藥液收集器移動的方式，雖然解決旋轉不均勻的問題，但仍不能解決交叉污染。藥液收集器的上下移動，容易使清洗過程中所揮發、飛濺的藥液與上面的部分工藝的殘留藥液混合，造成交叉污染，同時還會在硅片表面生成鹽和其它沉積物。目前的這兩種清洗結構，極易對硅片表面造成再污染。也對藥液的回收、處理、再利用和設備維護保養帶來極大不便。

發明內容

為了克服背景技術的不足，本實用新型提供一種硅片單片清洗工藝腔體結構。

本實用新型解決其技術問題所采取的技術方案是：采用獨立的可單獨上下運動的藥液收集杯來收集藥液，載片臺上下固定不動，洗凈過程中除當前工藝的藥液收集杯以外，其他工藝藥液杯均處于密閉狀態。

硅片單片清洗工藝腔體結構，由載片臺、旋轉系統和多重藥液收集杯組成，載片臺支撐硅片，旋轉系統帶動載片臺旋轉，藥液收集杯單獨上下運動，一個藥液收集杯開啟，其它工藝藥液收集杯均處于密閉狀態。每個藥液收集杯在空間上處于相對獨立狀態。

與現有技術相比，本實用新型對不同工藝的藥液的收集在空間上相對獨立，有效地減少了藥液間的交叉污染，對藥液回收后的后續處理、再利用、排放等提供了極大便利。同時因為沉積物的減少，方便了設備的維護保養，延長了設備使用壽命。

附圖說明

圖1是現有技術的載片臺移動示意圖；

圖2是現有技術的藥液收集器移動示意圖；

圖3是本實用新型硅片清洗腔體結構的工作方式示意圖；

圖4是本實用新型硅片清洗腔體結構的工作方式示意圖；

圖5是本實用新型硅片清洗腔體結構的工作方式示意圖；

圖6是本實用新型硅片清洗腔體結構的工作方式示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖詳細描述本實用新型的具體實施方式。

請參閱圖1，圖1是現有技術的載片臺移動示意圖，通過藥液自上而下，載片臺2快速旋轉來清洗硅片1。通過上下移動載片臺2，分開回收、處理不同工藝的不同藥液。載片臺2的上下移動，因旋轉軸的長短不同，就造成旋轉不均勻，從而造成清洗不均勻。

請參閱圖2，圖2是現有技術的藥液收集器移動示意圖，通過藥液4自上而下，載片臺2快速旋轉來清洗硅片1。通過上下移動藥液收集器3，分開回收、處理不同工藝的不同藥液1st、2nd、3rd、4th。雖然解決載片臺2旋轉不均勻的問題，但仍不能解決交叉污染。

請結合參閱圖3-圖6，通過藥液4自上而下，載片臺2快速旋轉來清洗硅片1。每個藥液收集杯5、6、7都可以單獨上下運動，除當前工藝的藥液收集杯以外，其它工藝藥液收集杯均處于密閉狀態。這樣每個藥液收集杯在空間上處于相對獨立狀態，有效地減少了藥液揮發、飛濺的交叉污染，從而減少沉積物的生成。

如圖3所示，當前工藝的藥液收集杯5以外，其它工藝藥液收集杯6、7、8均處于密閉狀態。

如圖4所示，當前工藝的藥液收集杯6以外，其它工藝藥液收集杯5、7、8均處于密閉狀態。

如圖5所示，當前工藝的藥液收集杯7以外，其它工藝藥液收集杯5、6、8均處于密閉狀態。

如圖6所示，當前工藝的藥液收集杯8以外，其它工藝藥液收集杯5、6、7均處于密閉狀態。