[實(shí)用新型]濺鍍機(jī)真空腔抽真空裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200820139273.4
• 申請(qǐng)日: 2008-10-14
• 公開（公告）號(hào): CN201209163Y
• 公開（公告）日: 2009-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭曉明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東中唱一帆科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C14/56
• 代理公司: 汕頭市潮睿專利事務(wù)有限公司
• 代理人: 丁德軒

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種濺鍍機(jī)，更具體地說涉及一種用于光盤的濺鍍機(jī)真空腔抽真空裝置。

背景技術(shù)

光盤生產(chǎn)中常用的鍍膜方法主要有：蒸鍍和濺鍍。二十世紀(jì)的前50年，世界各國(guó)科技人員經(jīng)過大量的試驗(yàn)研究基本建立了濺射理論。在二十世紀(jì)的后50年里，薄膜技術(shù)獲得了騰飛，這主要得益于真空技術(shù)在鍍膜方面的應(yīng)用，使真空鍍膜實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。由于有了理論基礎(chǔ)和成熟的工藝，各種鍍膜設(shè)備也不斷推陳出新。其中Leybold公司較早的開發(fā)出各種鍍膜設(shè)備，也包括用于光盤生產(chǎn)的真空濺鍍機(jī)。之后，廣泛用于光盤的濺鍍機(jī)還有德國(guó)Balzers和Singulus公司的濺鍍機(jī)。

蒸鍍是在真空中將金屬加熱蒸發(fā)產(chǎn)生金屬蒸氣，使其附著在基板上凝聚成薄膜。蒸鍍的基板材質(zhì)沒有限制，從紙、金屬到陶磁都能使用。蒸鍍有加熱式蒸鍍，還有電子槍加熱式及離子輔助式蒸鍍。蒸鍍是光盤母盤制作中常用的方式之一。

濺鍍是通過離子碰撞而獲得薄膜的一種工藝，主要分為兩類：陰極濺鍍和射頻濺鍍。陰極濺鍍一般用于濺鍍導(dǎo)體如鋁、銀或半導(dǎo)體。射頻濺鍍一般用于濺鍍非導(dǎo)體如。濺鍍主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面；靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。同時(shí)用強(qiáng)力磁鐵將電子呈螺旋狀運(yùn)動(dòng)，加速靶材周圍的氬氣離子化，使得氬氣離子對(duì)陰極靶材的撞擊機(jī)率增加，形成雪崩式的狀態(tài)，以此提高濺鍍速率。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好。

為了確保濺鍍質(zhì)量，實(shí)行陰極濺鍍時(shí)對(duì)環(huán)境有較高的要求。首先要在真空環(huán)境條件下，高真空可以減少氧化物的產(chǎn)生；使用惰性工藝氣體，通常為氬氣，作為離子介質(zhì)撞擊靶材；形成電場(chǎng)——靶材為陰極，盤片為陽(yáng)極；在真空腔內(nèi)，用強(qiáng)力磁鐵產(chǎn)生磁場(chǎng)；由于濺鍍時(shí)產(chǎn)生高熱，須用冷卻水對(duì)陰極進(jìn)行及時(shí)冷卻。

光盤的濺鍍過程：先將真空腔抽真空達(dá)到設(shè)定值，將盤片放入腔內(nèi)，真空腔內(nèi)盤片會(huì)被抽真空至高真空范圍。注入氬氣到真空腔，這時(shí)真空腔的真空度降低，此時(shí)對(duì)靶材(陰極)和盤片(陽(yáng)極)之間施以幾百伏特的直流電壓，使氬氣在電場(chǎng)中被離子化，產(chǎn)生氬離子及自由電子、在電場(chǎng)的作用下，帶正電荷的氬離子向陰極(靶材)加速，而自由電子向陽(yáng)極加速，被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原子，因動(dòng)能轉(zhuǎn)移使更多的氬原子被離子化，最后產(chǎn)生雪崩現(xiàn)象，等離子體持續(xù)自行放電。大量氬離子撞擊靶材表面，氬離子的動(dòng)能轉(zhuǎn)移至靶材原子，一部份轉(zhuǎn)化成靶材原子的動(dòng)能，當(dāng)靶材原子獲得足夠動(dòng)能，它們會(huì)脫離靶材表面并自由地在濺鍍腔內(nèi)移動(dòng)，最后覆蓋于盤片及腔內(nèi)其他表面。而氬離子撞擊靶材的另一部份動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱，因此靶材必須用冷卻水冷卻。為使盤片濺鍍層的厚度均勻，靶材周圍的磁場(chǎng)分布會(huì)提高等離子體的一致性。

對(duì)于濺鍍機(jī)而言，真空腔是必不可少的，在進(jìn)行濺鍍前，需要對(duì)真空腔進(jìn)行抽真空，因此需要抽真空裝置，在濺鍍完成后，則需要解除真空腔的真空狀態(tài)，即對(duì)真空腔進(jìn)行充氣，因此需要充氣裝置。

如圖1所示，現(xiàn)有的濺鍍機(jī)，其真空腔的抽真空裝置，包括真空腔1、高速分子泵2、油式真空泵3，所述真空腔1的出口連接高速分子泵2，高速分子泵2的出口通過導(dǎo)管4連接油式真空泵3。

當(dāng)異常停機(jī)或停電時(shí)，由于真空腔的真空度非常高，在真空腔的負(fù)壓作用下，油式真空泵內(nèi)的真空油就會(huì)沿著導(dǎo)管被吸到高速分子泵及真空腔腔內(nèi)，造成高速分子泵損壞、真空腔被污染。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)，提供一種濺鍍機(jī)真空腔抽真空裝置，可以避免油式真空泵內(nèi)的真空油被吸到高速分子泵及真空腔腔內(nèi)，采用的技術(shù)方案如下：

本實(shí)用新型的濺鍍機(jī)真空腔抽真空裝置，包括真空腔、高速分子泵、油式真空泵，其特征在于：還包括電磁閥，所述真空腔的出口連接高速分子泵，高速分子泵的出口通過導(dǎo)管連接油式真空泵，導(dǎo)管中部連接電磁閥。當(dāng)異常停機(jī)或停電時(shí)，電磁閥就會(huì)打開，使得導(dǎo)管與外界連通，這樣油式真空泵內(nèi)的壓力與外界的大氣壓相同，油式真空泵內(nèi)的真空油就不會(huì)受到真空腔的負(fù)壓作用，因此油式真空泵內(nèi)的真空油不會(huì)在真空腔的負(fù)壓作用沿著導(dǎo)管被吸入高速分子泵，從而起到保護(hù)高速分子泵的目的。

本實(shí)用新型對(duì)照現(xiàn)有技術(shù)的有益效果是，由于設(shè)有電磁閥，因此當(dāng)異常停機(jī)或停電時(shí)，電磁閥就會(huì)打開，讓導(dǎo)管與外界連通，使得油式真空泵的真空油不會(huì)沿著導(dǎo)管被吸入高速分子泵，能夠有效地保護(hù)高速分子泵，實(shí)際使用效果好、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于實(shí)現(xiàn)。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式