[實用新型]一種拋丸處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820132420.5 | 申請日： | 2008-08-13 |
| 公開（公告）號： | CN201265029Y | 公開（公告）日： | 2009-07-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 史優(yōu)良;徐信棠;韓順英;史建群;趙秋平 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇冶建防腐材料有限公司 |
| 主分類號： | C21D7/06 | 分類號： | C21D7/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 213300江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 拋丸 處理 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種拋丸處理裝置，包括拋丸器和拋丸室，拋丸室的壁板上裝有由鋼或其它表面堅硬耐磨的金屬材料制成的襯護(hù)板，其特征在于，所述的襯護(hù)板面向被拋丸處理工件的一面設(shè)置有直角波浪形的溝槽，所述的直角波浪形是指波浪的波峰和波谷都為90度的直角。
2.按權(quán)利要求1所述的拋丸處理裝置，其特征在于所述的襯護(hù)板材料為經(jīng)淬火和中低溫回火處理過的低中碳碳素鋼或合金鋼。
3.按權(quán)利要求1所述的拋丸處理裝置，其特征在于所述的襯護(hù)板的直角波浪形的溝槽兩個相鄰波峰的距離大于彈丸平均直徑的10倍。
4.按權(quán)利要求1、2或3所述的拋丸處理裝置，其特征在于該裝置還設(shè)置有彈丸回收循環(huán)系統(tǒng)。
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