[實用新型]一種噴淋防污染裝置有效
| 申請號： | 200820094929.5 | 申請日： | 2008-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN201243008Y | 公開（公告）日： | 2009-05-20 |
| 發明（設計）人： | 余仲;黃進權 | 申請（專利權）人： | 深圳市捷佳創精密設備有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/00 | 分類號： | H01L21/00;H01L21/306;C23F1/08;B08B17/00 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知識產權代理有限公司 | 代理人： | 胡朝陽;孫潔敏 |
| 地址： | 518000廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 噴淋 污染 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種噴淋防污染裝置，設置在酸堿處理的設備內，其特征在于：包括過渡槽(1)、設于過度槽(1)中部的上方的噴淋機構(9)、設于該噴淋機構周邊的隔板(5)，所述的隔板及過渡槽均與所述的設備內壁連接。
2、根據權利要求1所述的噴淋防污染裝置，其特征在于：所述過渡槽內部設有傳送機構(2)。
3、根據權利要求2所述的噴淋防污染裝置，其特征在于：所述傳送機構為帶傳動機構，其傳送起點與終點分別位于過渡槽內兩端。
4、根據權利要求3所述的噴淋防污染裝置，其特征在于：所述傳送機構上設置有工件籃(3)，傳送機構與噴淋機構(9)下端的距離大于工件籃高度。
5、根據權利要求1所述的噴淋防污染裝置，其特征在于：所述設備內部的空間被所述的隔板(5)及過渡槽(1)劃分的兩個獨立的工作區(7、8)，而過渡槽(1)橫跨這兩個工作區。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
