[實用新型]光刻版夾具無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820092598.1 | 申請日: | 2008-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN201188170Y | 公開(公告)日: | 2009-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王友旺 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳深愛半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 | 代理人: | 鄭小粵 |
| 地址: | 518029廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 夾具 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本實用新型涉及半導(dǎo)體制造工藝,尤其涉及用于清洗光刻版的夾具。
【背景技術(shù)】
在半導(dǎo)體制造工藝中,每一個環(huán)節(jié)對環(huán)境、器具的清潔干凈度都有很高的要求,即使是一丁點的沾污都會對產(chǎn)品的質(zhì)量產(chǎn)生重要的影響,因此每一個細節(jié)的控制都非常重要,其中光刻版表面的清潔干凈程度尤其重要。
目前,光刻版的清洗過程一般是將花籃固定在甩版機上的夾具,再將光刻版放在花籃里,大約每次放置十五塊版,然后對光刻版進行低速沖水以及高速甩干。
但是,上述沖洗過程中僅僅從光刻版一個方向上進行沖水,難以徹底對光刻版進行清潔,而且光刻版與花籃之間存在一定空間,在高速旋轉(zhuǎn)時容易發(fā)生光刻版撞碎的情況。
【發(fā)明內(nèi)容】
本實用新型的目的是提供一種光刻版夾具,以提高光刻版的清潔效果,并有效地防止光刻版在甩干過程中受到損壞。
為達到上述發(fā)明目的,本實用新型提出以下的技術(shù)方案:
一種光刻版夾具,包括一底座,所述底座上固設(shè)有一安裝架,所述安裝架邊緣設(shè)有內(nèi)徑小于光刻版外徑的夾持部,所述夾持部內(nèi)側(cè)設(shè)有放置光刻版的凸墊,其中,所述夾持部由韌性材料制成;所述底座中心還設(shè)有一可與馬達/電機配合的轉(zhuǎn)動裝置。
其中,所述轉(zhuǎn)動裝置為設(shè)置于底座中心的可與馬達/電機軸干配合轉(zhuǎn)動的通孔。
優(yōu)選地,所述通孔上還加裝有一螺釘。
優(yōu)選地,所述通孔邊緣設(shè)有防水孔。
其中,所述轉(zhuǎn)動裝置為設(shè)置于底座中心的轉(zhuǎn)動軸,以及可與所述轉(zhuǎn)動軸配合的傳動帶或傳動齒輪。
優(yōu)選地,所述凸墊的面積為0.01~4cm2。
優(yōu)選地,所述安裝架為“十”字型。
其中,所述安裝架的夾持部為直角,且四個夾持部圍成矩形。
優(yōu)選地,所述安裝架為“人”字形。
優(yōu)選地,所述韌性材料為聚四氟乙烯。
從以上技術(shù)方案可以看出,本實用新型由韌性材料制作而成,有一定韌性,光刻版與夾具通過過盈配合固定在一起,且一個夾具只放置一塊光刻版,不會產(chǎn)生相互撞擊而損壞。此外,本實用新型與光刻版的接觸面積很小,可以很好地保護光刻版的版圖面不受劃傷或污染,且對光刻版的表面沖洗更充分,提高了清洗的效果。
【附圖說明】
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)圖;
圖2為本實用新型的俯視圖。
【具體實施方式】
下面結(jié)合具體的實施例對本實用新型的技術(shù)方案進行詳細的描述。
實施例一:
如圖1、圖2所示,本實施例中夾具包括底座1,底座1上設(shè)有安裝架2和通孔3。其中安裝架2邊緣設(shè)有內(nèi)徑小于光刻版外徑的夾持部2.1,夾持部2.1內(nèi)側(cè)設(shè)有放置光刻版的凸墊2.2,其中,所述夾持部2.1由韌性材料制成,可與光刻版過盈配合,一般而言,夾持部2.1內(nèi)徑可比光刻版外徑略小0.5mm,由于夾持部2.1由韌性材料制成,具有一定的伸縮性,稍用力即可將光刻版壓入夾持部2.1,直至凸墊2.2。
底座1中心還設(shè)有一可與馬達/電機軸干配合轉(zhuǎn)動的通孔3,為了防止水與馬達/電機軸干接觸,達到放水的目的,本實用新型還在通孔3上還加裝有一由聚四氟乙烯制成的螺釘4,在通孔3邊緣設(shè)有防水孔5。
由于光刻版與夾具通過過盈配合在一起,非常牢固,即使在3600RPM的高轉(zhuǎn)速下也不會甩出,不會產(chǎn)生相互撞擊而損壞。
實施例二:
本實施例與實施例一相比,在夾光刻版處結(jié)構(gòu)不變的情況下,通過改變夾具與馬達/電機的傳動方式來完成本實用新型的目的。本實施例的夾具包括底座1,底座1上設(shè)有安裝架2和通孔3。其中安裝架2邊緣設(shè)有內(nèi)徑小于光刻版外徑的夾持部2.1,夾持部2.1內(nèi)側(cè)設(shè)有放置光刻版的凸墊2.2,其中,所述夾持部2.1由韌性材料制成,可與光刻版過盈配合,一般而言,夾持部2.1內(nèi)徑可比光刻版外徑略小0.5mm,由于夾持部2.1由韌性材料制成,具有一定的伸縮性;底座1中心還設(shè)有一轉(zhuǎn)動軸,以及可與所述轉(zhuǎn)動軸配合的傳動帶或傳動齒輪,馬達/電機可通過傳動帶或傳動齒輪帶動夾具高速轉(zhuǎn)動,對光刻版進行甩干。
進一步,為了保護光刻版版圖面,夾具與光刻版的接觸面積要盡可能的小,特別是光刻版的版圖面要盡量不與夾具進行接觸,在本實用新型中,支撐光刻版的凸墊2.2的面積很小,一般僅僅為0.01~4cm2(優(yōu)選為1cm2左右),不會與光刻版的版圖面接觸。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
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