[實用新型]電阻加熱鉬坩堝提拉法激光晶體生長裝置有效
| 申請號: | 200820063601.7 | 申請日: | 2008-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN201201983Y | 公開(公告)日: | 2009-03-04 |
| 發明(設計)人: | 周世斌;湯海濤;王國強;葉茂 | 申請(專利權)人: | 成都東駿激光有限責任公司 |
| 主分類號: | C30B15/18 | 分類號: | C30B15/18 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 | 代理人: | 吳彥峰 |
| 地址: | 611630四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電阻 加熱 坩堝 提拉法 激光 晶體生長 裝置 | ||
1、一種電阻加熱鉬坩堝提拉法激光晶體生長裝置,包括通過氧化鋁墊片(19)連接電極板(16)的托盤(15),以及置于托盤(15)上的鉬側保溫屏(10、11、12),鉬側保溫屏(10、11、12)上端設有鉬上保溫屏(5、6、7),其特征在于:鉬側保溫屏(12)內側裝有電阻加熱器(13),鉬堝托(9)通過連接體(18)與電極板(16)連接,鉬堝托(9)的外側罩有鉬臺罩(17),鉬堝托(9)上設有鉬坩堝(8),鉬坩堝(8)內裝有熔體(4),電阻加熱器(13)設置在鉬坩堝(8)的周圍,電阻加熱器(13)和鉬側保溫屏(12)之間還設有內屏蔽筒(14),鉬坩堝(8)上方設有鉬籽晶桿(1),鉬籽晶桿(1)下端裝有籽晶(2),籽晶(2)下端位于熔體(4)上方,且鉬籽晶桿(1)、籽晶(2)均位于鉬上保溫屏(5、6、7)的內側。
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