[實用新型]光盤濺鍍機的磁場發生裝置無效
| 申請號： | 200820046789.4 | 申請日： | 2008-04-23 |
| 公開（公告）號： | CN201207319Y | 公開（公告）日： | 2009-03-11 |
| 發明（設計）人： | 郭曉明 | 申請（專利權）人： | 廣東中唱一帆科技發展有限公司 |
| 主分類號： | H01F7/02 | 分類號： | H01F7/02;G11B7/26 |
| 代理公司： | 汕頭市潮睿專利事務有限公司 | 代理人： | 丁德軒 |
| 地址： | 515100廣東省汕*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光盤 濺鍍機 磁場 發生 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種光盤濺鍍機的磁場發生裝置，包括支架，其特征在于：還包括至少8個塊狀的小磁鐵，所述各磁鐵均固定在支架上，并且各磁鐵依次均勻分布，形成一個圓環。
2、如權利要求1所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述小磁鐵形成的圓環平均分為兩個區，第一個區的小磁鐵的N極朝向圓環的圓心，第二個區的小磁鐵的S極朝向圓環的圓心。
3、如權利要求2所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述磁鐵的數目為4的倍數。
4、如權利要求3所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述小磁鐵的個數的范圍最好在12-32之間。
5、如權利要求4所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述磁鐵的數目為12個。
6、如權利要求4所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述磁鐵的數目為16個。
7、如權利要求4所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述磁鐵的數目為24個。
8、如權利要求1-7中任意一項所述的光盤濺鍍機的磁場發生裝置，其特征在于：所述小磁鐵為正方體或長方體。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣東中唱一帆科技發展有限公司，未經廣東中唱一帆科技發展有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200820046789.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種氧化亞銅納米薄膜的快速制備方法
- 下一篇：一種三價鉻電鍍溶液及電鍍方法
