[實用新型]可發光輔助校準的定位裝置無效
| 申請號: | 200820000147.0 | 申請日: | 2008-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN201153119Y | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發明(設計)人: | 謝柏弘;羅世虎;林憲維 | 申請(專利權)人: | 科毅科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L21/683;G03F9/00 |
| 代理公司: | 天津三元專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 錢凱 |
| 地址: | 中國*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 輔助 校準 定位 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種晶圓制程的定位裝置,尤其涉及一種可發光輔助校準的定位裝置。
背景技術
傳統應用于晶圓制程的定位裝置(例如中國臺灣申請案號第5210816號專利),是如圖1及圖2所示,其于一機臺71上設置一反應室壁72,于該反應室壁72內再設一工作承座73;該工作承座73上則設一定位結構74;該定位結構74用以固定一晶圓75,該晶圓75上具有一晶圓定位標記751。
傳統定位裝置存在如下缺點:
1、無輔助背光的標號設計定位較不準確。如圖2所示,傳統定位裝置可能以可程序控制機械手臂76移動該晶圓75至該定位結構74的預定位置,其上再放置一光罩77,并通過一影像處理裝置(圖中未示)來判斷該光罩77上的光罩定位標記771與該晶圓75上的晶圓定位標記751是否對齊,一旦完全對齊時,才算是定位完畢,否則需要進行位置的微調。由于該晶圓75下方并無光源來輔助照明,因此,影像處理裝置于定位過程中進行取像時,取得的影像較暗,處理時的失誤機率較高,故,定位較不準確。
2、工作氣體供應部相當復雜。傳統定位裝置需于機臺上設置反應室壁,而工作承座則設于該反應室壁內,當需要于預定氣體(例如氮氣)中進行作業以避免氧化時,工作承座/定位結構本體并無法放出預定氣體,必需由機臺上的工作氣體供應部放出預定氣體,并使工作氣體充滿于反應室壁內,才能進行作業,這樣的設計,工作承座與反應室壁間必有預定距離,欲使預定氣體散布于工作承座旁,則需大量的預定氣體(氣體會消散,相當浪費),且機臺上另設反應室壁及工作氣體供應部則使裝置復雜化。
因此,有必要研發新技術以解決上述缺點。
實用新型內容
本實用新型所要解決的主要技術問題在于,克服現有技術存在的上述缺陷,而提供一種可發光輔助校準的定位裝置,其具有輔助背光的標號設計定位較準確,使定位結構與工作氣體供應部合一結構簡單,其真空吸引部使工件可輕易定位。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:
一種可發光輔助校準的定位裝置,其特征在于包括:一機臺;一工作承座,設于該機臺上;一定位結構,設于該工作承座上;該定位結構具有一第一面及一第二面;至少一發光部,設于該定位結構上,其可朝該第二面的方向發光;一真空吸引部,設于該定位結構上,其包括:一吸引槽道,內凹分布于該定位結構的第二面上;一第一氣孔,開設于該定位結構的第二面上,且連通該吸引槽道;一第二氣孔,開設于該定位結構的第一面上;一通氣道,設于該定位結構內部,且連通該第一氣孔及該第二氣孔,借此,使該真空吸引部產生預定吸引力;一工作氣體供應部,設于該定位結構內部,其包括:多個第三氣孔,開設于該定位結構的第二面上,且大體圍繞于該吸引槽道外周;一第四氣孔,開設于該定位結構的第一面上,且連通該多個第三氣孔,借此,使該工作氣體供應部可發出預定氣體以圍繞該吸引槽道。
前述的可發光輔助校準的定位裝置,其中真空吸引部又包括一真空產生裝置,該真空產生裝置連通該第二氣孔;所述工作氣體供應部又包括一氣壓源,該氣壓源連通該第四氣孔。
前述的可發光輔助校準的定位裝置,其中定位結構的第二面用以設置一第一工件,該第一工件至少具有一可輔助背光的第一標號,該第一標號對準該發光部發出的光線而呈輔助背光狀;所述真空產生裝置產生一吸力,并經該通氣道、該第一氣孔,而通過該吸引槽道吸引該第一工件,使該第一工件附著于該定位結構的第二面;借此,使一第二工件可于該第一工件上移動,該第二工件上對應該第一標號而具有至少一個可輔助背光的第二標號,借該發光部的光線,使呈輔助背光狀的第二、第一標號易于對準,使第一、第二工件達到校準定位;所述氣壓源經該第四氣孔而朝該第三氣孔輸出預定氣體;使被吸附于該吸引槽道上的第一、第二工件于該預定氣體中進行作業;所述預定氣體為氮氣。
前述的可發光輔助校準的定位裝置,其中定位結構由一第一結構及一第二結構組成;所述發光部、所述真空吸引部與所述工作氣體供應部分別設置于該第一、第二結構上;所述工作氣體供應部包括:多個上氣道,對應該多個第三氣孔而設于該定位結構內部;多個中氣道,對應該上氣道而設于該定位結構內部;多個下氣道,對應該中氣道而設于該定位結構內部;又,該第四氣孔連通該多個下氣道。
前述的可發光輔助校準的定位裝置,其中發光部設多個。
本實用新型的有益效果是,其具有輔助背光的標號設計定位較準確,使定位結構與工作氣體供應部合一結構簡單,其真空吸引部使工件可輕易定位。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
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