[發明專利]光學鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200810306247.0
• 申請日: 2008-12-15
• 公開（公告）號: CN101750639A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 吳佳穎
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;C23C14/24;C23C14/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及光學鍍膜領域，尤其涉及一種光學鍍膜裝置。

背景技術

隨著光學產品的發展，光學鏡片的應用范圍越來越廣。相應地，業界采用各種方法來制 造光學鏡片以適應市場對不同規格光學鏡片的需求(請參閱“Fabrication?of?Diffractive Opticai?Lens?for?Beam?splitting?Using?LIGA?Process”，Jauh?Jung?Yang ；Mechatronics?and?Automation，Proceedings?of?the?2006?IEEE?International Conference?on，pp.1242-1247，2006.06)。同時，為降低成本及提高效率，進行批量生 產以滿足對光學鏡片的需求。通常來說，制造出的光學鏡片需經過后續處理以獲得適于應用 的良好性能。

鍍膜工序為后續處理中的重要步驟之一。鍍膜是指以物理或化學方法在光學元件表面鍍 上單層或多層薄膜，利用入射、反射及透射光線在薄膜界面產生的干涉作用實現聚焦、準直 、濾光、反射及折射等效果。光學元件的鍍膜制程為：首先，將光學元件安裝于待鍍元件承 載架上，待鍍元件承載架設置于一鍍膜腔室中；其次，密閉鍍膜腔室并對其抽真空；然后， 以蒸鍍或濺鍍等方法在光學元件需要鍍膜的部位進行鍍膜；最后，將經過鍍膜的元件從待鍍 元件承載架拆卸下來。然而，在鍍膜源與待鍍元件承載架之間存在一定空間，即使蒸鍍或濺 鍍源關閉，空間中仍會有殘余鍍膜材料或污染物鍍附于基板上，影響膜厚精準性及潔凈度。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可提高膜厚控制精準度，并降低雜質污染待鍍元件的可能性 、提高鍍膜品質的光學鍍膜裝置。

一種光學鍍膜裝置，其包括真空鍍膜室、待鍍元件承載架及鍍膜源，所述待鍍元件承載 架及鍍膜源設置于所述真空鍍膜室內，所述光學鍍膜裝置還包括一鍍膜擋板，所述鍍膜擋板 設置于所述待鍍元件承載架與所述鍍膜源之間，且所述鍍膜擋板靠近所述待鍍元件承載架， 所述鍍膜擋板包括一第一擋板及一第二擋板，所述第一擋板可將所述真空鍍膜室分隔成兩個 空間，所述第一擋板具有一通孔，所述通孔對應所述待鍍元件承載架與鍍膜源設置，以使所 述鍍膜源產生的鍍膜材料氣體通過所述通孔到達置于待鍍元件承載架的待鍍元件上，所述第 二擋板可相對所述第一擋板移動并分別遮擋或暴露所述通孔。

本發明所提供的光學鍍膜裝置，由于該鍍膜擋板可將真空鍍膜室分隔為兩個空間且可利 用鍍膜擋板的開啟及關閉控制鍍膜材料是否進入待鍍元件承載架所在空間，從而可精確控制 鍍膜厚度，并提高鍍膜品質。

附圖說明

圖1是本發明第一實施例提供的光學鍍膜裝置的示意圖。

圖2是圖1中光學鍍膜裝置的鍍膜擋板在開啟狀態時的示意圖。

圖3是圖1中光學鍍膜裝置的鍍膜擋板在關閉狀態時的示意圖。

圖4是本發明第二實施例提供的光學鍍膜裝置的鍍膜擋板在開啟狀態時的示意圖。

圖5是圖4中的鍍膜擋板在關閉狀態時的示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖，對本發明實施例作進一步的詳細說明。

請參閱圖1，本發明第一實施例提供了一種光學鍍膜裝置100。該光學鍍膜裝置100包括 真空鍍膜室10、待鍍元件承載架20、鍍膜源30及鍍膜擋板40。所述待鍍元件承載架20、鍍膜 源30及鍍膜擋板40設置于真空鍍膜室10內。所述光學鍍膜裝置100可以是蒸鍍或濺鍍裝置， 本實施例以蒸鍍裝置為例。

所述待鍍元件承載架20通過一轉動軸21安裝在所述真空鍍膜室10的頂部11，所述待鍍元 件承載架20與所述轉動軸21固定連接，且所述待鍍元件承載架20可繞所述轉動軸21轉動。本 實施例中采用螺絲將所述待鍍元件承載架20連接于所述轉動軸21上。所述待鍍元件承載架 20上包括多塊基板60，所述基板60載有待鍍元件70。本實施例中，所述待鍍元件承載架20為 傘形。當然，所述待鍍元件承載架20不限于這種形狀，其也可以為平板狀。

所述鍍膜源30固定在所述真空鍍膜室10的底部12。所述鍍膜源30為一蒸鍍源，其通常采 用一坩堝31，將鍍膜材料32裝置于坩堝31中，再使用一電子槍33擊打坩堝31中的鍍膜材料 32至其蒸發，從而向上沖擊至待鍍元件承載架20，在待鍍元件70相應的表面上鍍膜。