[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)鍍膜裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810306247.0
• 申請(qǐng)日: 2008-12-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101750639A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳佳穎
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B1/10
• 分類(lèi)號(hào): G02B1/10;C23C14/24;C23C14/30
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種光學(xué)鍍膜裝置，其包括真空鍍膜室、待鍍?cè)休d架及鍍膜源， 所述待鍍?cè)休d架及鍍膜源設(shè)置于所述真空鍍膜室內(nèi)，其特征在于，所述 光學(xué)鍍膜裝置還包括一鍍膜擋板，所述鍍膜擋板設(shè)置于所述待鍍?cè)休d架 與所述鍍膜源之間，所述鍍膜擋板接近所述待鍍?cè)休d架而遠(yuǎn)離所述鍍膜 源而設(shè)置，將所述真空鍍膜室分隔成兩個(gè)空間，所述鍍膜擋板包括一第一擋 板及一第二擋板，所述第一擋板具有一通孔，所述通孔對(duì)應(yīng)所述待鍍?cè)? 載架與鍍膜源設(shè)置，以使所述鍍膜源產(chǎn)生的鍍膜材料氣體通過(guò)所述通孔到達(dá) 置于待鍍?cè)休d架的待鍍?cè)希龅诙醢蹇上鄬?duì)所述第一擋板移動(dòng) 并分別遮擋或暴露所述通孔。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于，所述第二擋板可轉(zhuǎn) 動(dòng)地固定于所述第一擋板上。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于，所述真空鍍膜室具 有一內(nèi)壁，所述第一擋板固定于所述真空鍍膜室的內(nèi)壁上。

4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于，所述內(nèi)壁上具有一 凹槽，所述第一擋板固定于所述凹槽中。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于，所述第二擋板包括 多個(gè)子擋板，所述多個(gè)子擋板可相對(duì)所述第一擋板轉(zhuǎn)動(dòng)從而使所述通孔被遮 擋或暴露。

6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于，所述多個(gè)子擋板分 別通過(guò)一旋轉(zhuǎn)軸固定于所述第一擋板上。

7.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于，所述多個(gè)子擋板的 形狀為扇葉形。