[發明專利]一種激光裝置無效
| 申請號: | 200810304292.2 | 申請日: | 2008-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN101661164A | 公開(公告)日: | 2010-03-03 |
| 發明(設計)人: | 韋安琪;江文章 | 申請(專利權)人: | 富士邁半導體精密工業(上海)有限公司;沛鑫半導體工業股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09;G02B17/06;G02B5/10;B23K26/06 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種激光裝置,尤其涉及一種能夠調整激光場形的激光裝置。
背景技術
隨著半導體技術與加工技術的進步,面板切割技術發展迅速。傳統的機械切割技術包括三步驟,即劃線、裂片及磨邊。由于傳統的刀輪式劃線后,再用機械應力裂片,容易使切割面有碎屑、微裂痕等現象,以致切割品質下降。因此,近后來,業界一般采用激光切割技術,其具有切割裂痕垂直度較佳、切割面光滑且切割效率較高的優點。然而激光切割技術中,激光切割品質決定于激光場形的分布。因此,需根據實際情況調整激光場形的分布,從而提高激光切割速度及效率。
有鑒于此,提供一種能夠調整激光場形的激光裝置實為必要。
發明內容
以下將以實施例說明一種能夠調整激光場形的激光裝置。
一種激光裝置,包括:一個激光源與一個光學模組。該激光源用于發射橫向電磁模態TEMxy的激光,其中,x大于等于0,小于等于3,y大于等于0,小于等于3。該光學模組包括一個設置在該激光光路上的柱狀透鏡,該柱狀透鏡具有一個鄰近該激光源的第一表面及一個與該第一表面相對的第二表面,該第一表面與該第二表面中至少一者為柱狀曲面以用于改變該激光的場形。
相對于現有技術,所述激光裝置包括一個第一光學元件,該第一光學元件所包括的第一表面與第二表面中至少一者為柱狀曲面,該柱狀曲面能夠使該激光源發射的激光產生非對稱光斑,即光場在兩個垂直方向的分布不同,從而改變該激光的光場分布,提高該激光裝置的光利用效率。由于該激光裝置只包括一個第一光學元件,因此該激光裝置的結構簡單,制造成本較低。
附圖說明
圖1是本發明第一實施例提供的激光裝置的光路示意圖。
圖2是本發明第二實施例提供的激光裝置的光路示意圖。
圖3是本發明第三實施例提供的激光裝置的光路示意圖。
圖4是激光經過第三實施例提供的激光裝置后的光場效果圖。
圖5是激光源發出的激光為橫向電磁模態TEM10的模擬示意圖。
圖6是圖5中的激光經過第三實施例提供的激光裝置后的光場效果圖。
圖7是本發明第四實施例提供的激光裝置的光路示意圖。
圖8是激光源發出的激光為橫向電磁模態TEM01的模擬示意圖。
圖9是圖8中的激光經過第四實施例提供的激光裝置后的光場效果圖。
圖10是本發明第五實施例提供的激光裝置的光路示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明作進一步的詳細說明。
請參見圖1,本發明第一實施例提供的激光裝置10,其包括激光源11及光學模組12。
該激光源11用于發射橫向電磁模態(Transverse?Electromagnetic,TEM)TEMxy的激光101,其中,x大于等于0,小于等于3,y大于等于0,小于等于3。
該光學模組12為一個柱狀透鏡,其設置在該激光101的光路上。該柱狀透鏡具有一個鄰近該激光源11的第一表面121,及一個與第一表面121相對的第二表面122。該第一表面121為柱狀凹曲面,該第二表面122為平面。該激光源11發出的激光101經由光學模組12的第一表面121透射后被發散到像平面13形成一個條形光斑131。
該第一表面121為柱狀凹曲面,其可將該激光源11發出的激光101發散形成一個條形光斑131,從而改變了該激光101的場形,并且由于該光學模組12為一個柱狀透鏡,柱狀透鏡能夠產生不對稱的光斑,即光場在X方向與Y方向上的分布不同。同時,該激光裝置10只包括一個柱狀透鏡,因此該激光裝置10的結構簡單,制造成本較低。
請參見圖2,本發明第二實施例提供的激光裝置20,其與第一實施例提供的激光裝置10基本相同,該激光裝置20包括激光源21及光學模組22。
本實施例與第一實施例不同之處在于,該光學模組22為一個柱狀透鏡,該光學模組22的第一表面221為沿X方向延伸的柱狀凹曲面,第二表面222為沿Y方向延伸的柱狀凸曲面,其中,該X方向與Y方向互相垂直。
該激光源21發出的橫向電磁模態TEMxy的激光201,其中,x大于等于0,小于等于3,y大于等于0,小于等于3。
該光學模組22的第一表面221為柱狀凹曲面,可將激光201發散,該第二表面222為柱狀凸曲面,其可將激光201會聚,從而在像平面23形成一個光斑231,從而改變了該激光源21的場形。
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