[發明專利]一種激光裝置無效
| 申請號: | 200810304292.2 | 申請日: | 2008-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN101661164A | 公開(公告)日: | 2010-03-03 |
| 發明(設計)人: | 韋安琪;江文章 | 申請(專利權)人: | 富士邁半導體精密工業(上海)有限公司;沛鑫半導體工業股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09;G02B17/06;G02B5/10;B23K26/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201600上海市松江區松*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 裝置 | ||
1.一種激光裝置,包括:
一個激光源,其用于發射橫向電磁模態TEMxy的激光,其中,x大于等于0,小于等于3,y大于等于0,小于等于3;
一個光學模組,其包括一個設置在該激光光路上的柱狀透鏡,該柱狀透鏡具有一個鄰近該激光源的第一表面及一個與該第一表面相對的第二表面,該第一表面與該第二表面中至少一者為柱狀曲面以用于改變該激光的場形。
2.如權利要求1所述的激光裝置,其特征在于,該柱狀曲面為柱狀凸曲面。
3.如權利要求1所述的激光裝置,其特征在于,該柱狀曲面為柱狀凹曲面。
4.如權利要求1所述的激光裝置,其特征在于,該光學模組進一步包括一個第二光學元件,該第二光學元件設置在該第一光學元件與該激光源之間,該第二光學元件具有一個遠離該第一光學元件的第三表面及與該第三表面相對的第四表面,該第三表面與該第四表面中至少一者為非平面。
5.如權利要求1所述的激光裝置,其特征在于,該光學模組進一步包括一個第二光學元件,該第二光學元件設置在該第一光學元件的遠離該激光源的一側,該第二光學元件具有一個鄰近該第一光學元件的第三表面及與該第三表面相對的第四表面,該第三表面與該第四表面中至少一者為非平面。
6.如權利要求1所述的激光裝置,其特征在于,該光學模組進一步包括一個第一反射元件及一個第二反射元件,該第一反射元件與該第二反射元件設置在該激光源與該第一光學元件之間。
7.如權利要求6所述的激光裝置,其特征在于,該第一反射元件的焦距f1與該第二反射元件的焦距f2,滿足以下的條件式:
|f1|+|f2|=d
其中,d表示該第一反射元件與該第二反射元件的頂點間距。
8.如權利要求6所述的激光裝置,其特征在于,該第一反射元件與該第二反射元件為橢球面反射鏡。
9.如權利要求6所述的激光裝置,其特征在于,該第一反射元件與該第二反射元件為拋物面反射鏡。
10.如權利要求1所述的激光裝置,其特征在于,該光學模組進一步包括一個第一反射元件及一個第二反射元件,該第一反射元件與該第二反射元件設置在該第一光學元件遠離該激光源的一側。
11.如權利要求10所述的激光裝置,其特征在于,該第一反射元件的焦距f1與該第二反射元件的焦距f2,滿足以下的條件式:
|f1|+|f2|=d
其中,d表示該第一反射元件與該第二反射元件的頂點間距。
12.如權利要求10所述的激光裝置,其特征在于,該第一反射元件與該第二反射元件為橢球面反射鏡或拋物面反射鏡。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于富士邁半導體精密工業(上海)有限公司;沛鑫半導體工業股份有限公司,未經富士邁半導體精密工業(上海)有限公司;沛鑫半導體工業股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810304292.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





