[發(fā)明專利]壓印模仁及壓印模仁制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810302721.2 | 申請日： | 2008-07-14 |
| 公開（公告）號： | CN101628464A | 公開（公告）日： | 2010-01-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張耕銘 | 申請（專利權(quán)）人： | 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號： | B29C43/36 | 分類號： | B29C43/36;B29L11/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 壓印 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種壓印模仁制造方法，其包括以下步驟：
提供一個(gè)模仁粗坯，所述模仁粗坯具有成型面和圍繞所述成型面的周邊 部；
在所述成型面和周邊部上形成鍍膜層，并將所述鍍膜層霧化處理；
超精密加工所述成型面以形成模仁；
在塑料基板上利用模仁壓印得到主模仁，所述主模仁具有陣列排列的圖 案；
利用主模仁壓印得到壓印模仁。
2.如權(quán)利要求1所述的壓印模仁制造方法，其特征在于：所述鍍膜層的 材料為鎳或者鉻。
3.如權(quán)利要求1所述的壓印模仁制造方法，其特征在于：所述鍍膜層的 厚度范圍為0.2毫米至0.4毫米。
4.如權(quán)利要求1所述的壓印模仁制造方法，其特征在于：采用化學(xué)蝕刻 方法將所述鍍膜層霧化處理。
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