[發明專利]鍍膜基片檢測裝置及鍍膜基片檢測方法

無效

• 申請號: 200810301523.4
• 申請日: 2008-05-09
• 公開（公告）號: CN101576492A
• 公開（公告）日: 2009-11-11
• 發明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G01N21/59
• 分類號: G01N21/59;G01N21/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜基片檢測裝置，其特征在于包括一個具有相對兩個端面的暗箱、一個設置于該暗箱一個端面的光源、一個設置于該暗箱另外一個端面的光強度感測器及一個與該光強度感測器電連接的透過率顯示裝置，該暗箱在該兩個端面之間形成有一個暗箱門及一個與該暗箱門對應的鍍膜基片收容部，該鍍膜基片收容部用于收容多片由該暗箱門進出的鍍膜基片。

2.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該暗箱為一個由不透明材料制成的矩形中空箱，該兩個端面為該暗箱與其長度方向垂直的兩個內表面，該暗箱門形成于該暗箱的一個長側面上，該鍍膜基片安裝部為形成于該暗箱與該暗箱門相對的內表面上的多個夾持凹槽。

3.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該光源為面光源。

4.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該光源面積與其對應的端面面積相配合。

5.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該光源為可見光光源。

6.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該光強度感測器包括光度計。

7.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該透過率顯示裝置包括液晶顯示器。

8.如權利要求1所述的鍍膜基片檢測裝置，其特征在于，該透過率顯示裝置固定于該暗箱上。

9.一種鍍膜基片檢測方法，其包括：

提供一個鍍膜基片檢測裝置，該鍍膜基片檢測裝置包括一個具有相對兩個端面的暗箱、一個設置于該暗箱一個端面的光源、一個設置于該暗箱另外一個端面的光強度感測器及一個與該光強度感測器電連接的透過率顯示裝置，該暗箱在該兩個端面之間形成有一個暗箱門及一個與該暗箱門對應的鍍膜基片收容部，該鍍膜基片收容部用于收容多片由該暗箱門進出的鍍膜基片；

打開該暗箱門；

將多片標準鍍膜基片放置于該鍍膜基片收容部；

合上該暗箱門；

開啟該鍍膜基片檢測裝置；

從該透過率顯示裝置讀取透過率作為一個預定透過率；

關閉該鍍膜基片檢測裝置，打開該暗箱門，取出該多片標準鍍膜基片；

將多片鍍膜基片放置于該鍍膜基片收容部；

合上該暗箱門；

開啟該鍍膜基片檢測裝置；及

從該透過率顯示裝置讀取透過率以判斷該透過率是否高于一個預定透過率；若是，該多片鍍膜基片合格。