[發明專利]鍍膜基片檢測裝置及鍍膜基片檢測方法無效
| 申請號: | 200810301523.4 | 申請日: | 2008-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN101576492A | 公開(公告)日: | 2009-11-11 |
| 發明(設計)人: | 王仲培 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/59 | 分類號: | G01N21/59;G01N21/01 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜 檢測 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種鍍膜技術,特別涉及一種鍍膜基片檢測裝置及一種鍍膜基片檢測方法。
背景技術
當前,鍍膜工藝在光電產品中,應用極其普遍。較常見的光學鍍膜方法包括真空蒸鍍法。真空蒸鍍法將基片密封于無污染物(如粉塵)的真空蒸鍍室內進行蒸鍍,以在基片上形成膜層。然而,由于技術上的極限,真空蒸鍍室不可能達到完全真空狀態,鍍膜基片通常存在麻點(粒徑為5-10微米)或白點(粒徑為50-100微米)等不良。因此,需對鍍膜基片進行相關檢測,以確定鍍膜基片的質量是否符合要求。目前,常用的檢測方法包括目檢(visualinspection,可能借助放大鏡偵測麻點)。然而,目檢效率差,標準不一,檢測效果不理想。
發明內容
有鑒于此,有必要提供一種檢測效率高且檢測標準統一的鍍膜基片檢測裝置及鍍膜基片檢測方法。
一種鍍膜基片檢測裝置,其包括一個具有相對兩個端面的暗箱、一個設置于該暗箱一個端面的光源、一個設置于該暗箱另外一個端面的光強度感測器及與一個該光強度感測器電連接的透過率顯示裝置,該暗箱在該兩個端面之間形成有一個暗箱門及一個與該暗箱門對應的鍍膜基片收容部,該鍍膜基片收容部用于收容多片由該暗箱門進出的鍍膜基片。
一種鍍膜基片檢測方法,其包括:
提供一個鍍膜基片檢測裝置,該鍍膜基片檢測裝置包括一個具有相對兩個端面的暗箱、一個設置于該暗箱一個端面的光源、一個設置于該暗箱另外一個端面的光強度感測器及一個與該光強度感測器電連接的透過率顯示裝置,該暗箱在該兩個端面之間形成有一個暗箱門及一個與該暗箱門對應的鍍膜基片收容部,該鍍膜基片收容部用于收容多片由該暗箱門進出的鍍膜基片;
打開該暗箱門;
將多片標準鍍膜基片放置于該鍍膜基片收容部;
合上該暗箱門;
開啟該鍍膜基片檢測裝置;
從該透過率顯示裝置讀取透過率作為一個預定透過率;
關閉該鍍膜基片檢測裝置,打開該暗箱門,取出該多片標準鍍膜基片;
將多片鍍膜基片放置于該鍍膜基片收容部;
合上該暗箱門;
開啟該鍍膜基片檢測裝置;及
從該透過率顯示裝置讀取透過率以判斷該透過率是否高于一個預定透過率;若是,該多片鍍膜基片合格。
利用該鍍膜基片檢測裝置執行該鍍膜基片檢測方法,可同時檢測多片鍍膜基片,檢測效率高,且檢測標準統一,檢測效果好。
附圖說明
圖1為本發明較佳實施方式的鍍膜基片檢測裝置的立體示意圖。
圖2為圖1的鍍膜基片檢測裝置截面示意圖。
圖3為發明較佳實施方式的鍍膜基片檢測方法的流程圖。
具體實施方式
請一并參閱圖1及圖2,本發明較佳實施方式的鍍膜基片檢測裝置10包括一個暗箱110、一個光源120、一個光強度感測器130及一個透過率顯示裝置140。暗箱110包括兩個相對的端面112、114。光源120及光強度感測器130分別設置于端面112、114上。透過率顯示裝置140與光強度感測器130電連接。暗箱110在兩個端面112、114之間形成有一個暗箱門116及一個與暗箱門116對應的鍍膜基片收容部118。鍍膜基片收容部118用于收容多片由暗箱門116進出的鍍膜基片20(如鍍膜玻璃片)。
暗箱110為一個由不透明材料制成的矩形中空箱。端面112、114為暗箱110與其長度方向垂直的兩個內表面。暗箱門116形成于矩形中空箱的一個長側面(如頂側面)上。鍍膜基片安裝部118為形成于矩形中空箱與暗箱門116相對的內表面(如底內表面)上的多個夾持凹槽11a。
當然,暗箱110并不限于本實施方式,可視檢測需求制成其他形狀,如圓筒狀(用于測試圓形鍍膜基片)。
優選地,光源120為可見光面光源。更加優選地,光源120面積與端面112形狀相配合,以降低光源120的邊緣現象。
光強度感測器130為光度計(Photometer),用于感測光源120發出的可見光經過多片鍍膜基片20后的強度,并換算為透過率。
透過率顯示裝置140可采用液晶顯示器,其固定于暗箱110上,當然,也可分離設置。透過率顯示裝置140用于讀取光強度感測器130輸出的透過率(光源120發出的光經過多片鍍膜基片20的透過率),并顯示出來。
請一并參閱圖3,本發明較佳實施方式的鍍膜基片檢測方法包括以下步驟:
步驟310:提供鍍膜基片檢測裝置10;
步驟320:打開暗箱門116;
步驟322:將多片標準鍍膜基片(圖未示)放置于鍍膜基片收容部118;
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