[發明專利]工業塵埃清洗方法及裝置有效
| 申請號： | 200810247522.6 | 申請日： | 2008-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN101716582A | 公開（公告）日： | 2010-06-02 |
| 發明（設計）人： | 柴立軍;呂娜 | 申請（專利權）人： | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號： | B08B5/02 | 分類號： | B08B5/02;B08B15/00;B08B5/04 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 余剛 |
| 地址： | 100085 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 工業 塵埃 清洗 方法 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種工業塵埃清洗方法，其特征在于，包括：
利用渦流吹掃工件表面，其中，所述渦流由高壓氣體進入 一球形腔體的渦流腔中形成，并且通過與所述渦流腔連通的渦 流出口吹出，
利用真空口將所述渦流吹掃起來的塵埃抽走。
2.根據權利要求1所述的工業塵埃清洗方法，其特征在于，
所述渦流自至少一渦流出口吹出，所述真空口環繞所述至 少一渦流出口。
3.根據權利要求1所述的工業塵埃清洗方法，其特征在于，
所述渦流自一槽中吹出，所述真空口在所述槽的兩側平行 延伸。
4.根據權利要求1所述的工業塵埃清洗方法，其特征在于， 使所述工件在所述渦流下方水平移動。
5.根據權利要求1所述的工業塵埃清洗方法，其特征在于， 使用于吹掃的渦流沿所述工件表面移動。
6.根據權利要求1所述的工業塵埃清洗方法，其特征在于，
所述工件為待清洗的等離子或液晶基板、薄膜或薄板表 面。
7.一種工業塵埃清洗裝置，其特征在于，包括
渦流產生裝置，包括高壓進氣管、球形腔體的渦流腔、以 及與所述渦流腔連通的至少一渦流出口；
罩，設在所述渦流產生裝置的外圍，以形成環繞渦流產生 裝置的真空口；以及抽真空裝置，與所述真空口相連。
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