[發(fā)明專利]工業(yè)塵埃清洗方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810247522.6
• 申請日: 2008-12-30
• 公開（公告）號: CN101716582A
• 公開（公告）日: 2010-06-02
• 發(fā)明（設計）人: 柴立軍;呂娜
• 申請（專利權）人: 四川虹歐顯示器件有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B15/00;B08B5/04
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛

技術領域

本發(fā)明涉及等離子顯示器領域，具體而言，涉及一種工業(yè)塵埃 清洗方法及裝置。

背景技術

液晶基板、等離子基板、薄膜及版面進行油漆等生產過程中對 塵埃的要求是非常嚴格的，現(xiàn)有的工業(yè)塵埃清洗方法采用水洗或毛 刷進行清洗，這樣一是浪費資源和空間、增大成本，二是潔凈度不 能保證，二次污染的可能性極大。

因此，有必要對現(xiàn)有的清洗方法進行改進。

發(fā)明內容

本發(fā)明目的在于提供一種利用氣體進行的工業(yè)塵埃清洗方法 及裝置，以替代水洗或毛刷進行清潔。

為此，本發(fā)明提供的利用氣體進行工業(yè)塵埃清洗的方法包括： 利用高壓氣體形成的渦流吹掃工件表面，利用真空口將渦流吹掃起 來的塵埃抽走。

其中，上述渦流自至少一渦流出口吹出，上述真空口環(huán)繞至少 一渦流出口。

其中，上述渦流自一槽中吹出，上述真空口在上述中心槽的兩 側平行延伸。

其中，使上述工件在上述渦流下方水平移動。

其中，使用于吹掃的渦流沿工件表面移動。

其中，上述工件為待清洗的等離子或液晶基板、其它薄膜或薄 板表面的除塵清洗等。

其中，上述渦流由高壓氣體進入一圓形腔體中形成。

另外，本發(fā)明還提供一種利用氣體進行工業(yè)塵埃清洗的裝置， 包括：渦流產生裝置，具有至少一渦流出口；罩，設在渦流產生裝 置的外圍，以形成環(huán)繞渦流產生裝置的真空口；以及抽真空裝置， 與真空口相連。

其中，上述渦流產生裝置包括高壓進氣管、渦流腔、以及與渦 流腔連通的至少一渦流出口。

其中，上述渦流腔為球形腔體。

本發(fā)明利用高壓氣體形成的渦流吹掃工件表面，利用真空口將 渦流吹掃起來的塵埃抽走，不但將輕浮在工件表面的塵埃抽走，而 且還將緊密附著在工件上的塵埃去除掉，節(jié)約了資源和空間、降低 了成本，清洗的潔凈度較好，二次污染的可能性極小。

除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點之外，本發(fā)明還有其它的 目的、特征和優(yōu)點。下面將參照圖，對本發(fā)明的其它的目的、特征 和效果作進一步詳細的說明。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構成本申 請的一部分。圖中，

圖1示意性的示出了根據(jù)本發(fā)明的工業(yè)塵埃清洗的裝置的結 構。

具體實施方式

下面將參考附圖并結合優(yōu)選實施例，來詳細說明本發(fā)明。

本發(fā)明的工業(yè)塵埃清洗方法是利用高壓氣體形成的渦流吹掃 工件表面，再利用真空口將所述渦流吹掃起來的塵埃抽走。從而達 到清潔工件表面的目的。下面描述根據(jù)本發(fā)明方法的裝置。

圖1示意性的示出了根據(jù)本發(fā)明的利用氣體進行工業(yè)塵埃清洗 的裝置的結構。如圖所示，根據(jù)本發(fā)明的利用氣體進行的工業(yè)塵埃 清洗裝置包括：渦流產生裝置30，罩40，抽真空裝置(圖中未示 出)，以及用于輸送待清潔工件的傳送裝置10。

傳送裝置10，用于傳送工件20，該工件20為需清洗工業(yè)塵埃 的等離子或液晶基板、其它薄膜或薄板等部件；渦流產生裝置30， 設置在傳送裝置10的上方，用于產生渦流，渦流產生裝置30具有 高壓進氣管(圖中未示出)、形狀為球形腔體的渦流腔33、以及與 渦流腔連通的渦流出口31；罩40，設在渦流產生裝置30的外圍， 以形成環(huán)繞渦流產生裝置30的真空口32；抽真空裝置，與真空口 32相連，可以由真空泵、真空管道和真空閥門構成。

清洗工件20的工業(yè)塵埃時，傳送裝置10將工件20傳送至渦 流產生裝置30下面，渦流腔33產生渦流，通過渦流出口31，利用 壓力為0.5～0.7Mpa的高壓氣體形成的渦流吹掃工件20表面，兩邊 的抽真空口32把渦流旋掃起來的塵埃及從兩邊抽吸進來的塵埃一 起抽走。隨著傳送裝置10將工件20從一端傳送至另一端，工件20 表面上的工業(yè)塵埃就被清洗干凈。本發(fā)明不但將輕浮在工件表面的 塵埃抽走，而且還將緊密附著在工件20上的塵埃去除掉，從而達 到徹底清潔的目的。

在圖1所示的工業(yè)塵埃清洗裝置中，渦流腔33還可以為其他 形狀，只要能產生渦流即可。渦流出口根據(jù)情況可以設置多個。另 外，渦流出口還可以呈槽狀，此時，用于抽真空的真空口可設置在 槽狀渦流出口的兩側。