[發明專利]一種校對真空設備溫度均勻性的方法有效
| 申請號： | 200810246545.5 | 申請日： | 2008-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN101762340A | 公開（公告）日： | 2010-06-30 |
| 發明（設計）人： | 古宏偉;屈飛;楊發強;杜風貞 | 申請（專利權）人： | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號： | G01K7/02 | 分類號： | G01K7/02 |
| 代理公司： | 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 | 代理人： | 童曉琳 |
| 地址： | 100088*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 校對 真空設備 溫度 均勻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種校對真空設備溫度均勻性的方法，其特征在于，該方法步驟如下，
(1)將測溫區劃分成小區域；
(2)選擇一種金屬，制備直徑為5～10mm、厚度為0.5～1mm的標準試樣，所 述金屬包括鋅、鋁、鉛或鑭；
(3)將標準試樣放置在加熱器中待測區域內，抽真空，背底真空達到5.0×10-3Pa 時，以20～40℃/s的升溫速率加熱，通過觀察窗觀察標準試樣狀態變化，當觀察 到標準試樣熔化時，讀取熱電偶示數T1，隨后將標準試樣冷卻；
(4)設定升溫速率，先以20～40℃/s的升溫速率升溫至T1以下30℃，然后以 1℃/s的升溫速率升溫，觀察標準試樣狀態，當標準試樣熔化時讀取熱電偶示數 T0；
(5)將標準試樣放置在劃分的其他區域內，重復步驟(4)，讀取熱電偶讀數，得 到設備溫度偏差。
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