[發明專利]一類14-羥基青藤堿衍生物、合成方法及其用途

無效

• 申請號: 200810243932.3
• 申請日: 2008-12-17
• 公開（公告）號: CN101628893A
• 公開（公告）日: 2010-01-20
• 發明（設計）人: 李玉峰;朱紅軍;錢溢;宋廣亮;王錦堂
• 申請（專利權）人: 南京工業大學
• 主分類號: C07D221/28
• 分類號: C07D221/28;A61K31/485;A61P29/00
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1、一類如結構通式I所示的14-羥基青藤堿衍生物：

R₁為H、乙酰基、苯甲酰基、新戊酰基、甲基、芐基或4-芐氧基芐基；

R₂為：H、乙酰基、新戊酰基或苯甲酰基；

X為-OH或＝O。

結構通式I

當I中R₂＝H，X＝＝O時為Ia；當I中X＝＝O時為Ib；當I中X＝-OH時為Ic。

2、根據權利要求1所述的14-羥基青藤堿衍生物的制備方法，其特征是通過以下反應合成的：

(1)氧化反應：將O-酰基青藤堿或O-烴基青藤堿與一種氧化劑作用發生氧化反應，得到Ia(其中R₁是除了H之外的如權利要求1所述的基團)；

(2)酯化反應：Ia在三乙胺為縛酸劑存在的情況下、在有機溶劑中與一種酰氯反應，經過分離純化得到Ib(其中R₁是除了H之外的如權利要求1所述的基團)。該步驟中所用的酰氯是乙酰氯、新戊酰氯或者苯甲酰氯；

(3)還原反應：Ib與硼氫化鈉發生還原反應得到Ic(R₁是除了H之外的如權利要求1所述的基團)；

(4)氫解反應：R₁為芐基的Ia、Ib或Ic分別在Pd/C為催化劑下與氫源試劑作用，獲得R₁為H的Ia、Ib、Ic；

(5)脫芐氧芐基反應：R₁為4-芐氧芐基的Ia、Ib或Ic分別與三氟醋酸溶液作用，獲得R₁為H的Ia、Ib、Ic。

3、權利要求2所述的氧化反應的特征是：使用的氧化劑為MnO₂或者是負載于一種載體上的MnO₂；負載的載體是硅膠、氧化鋁、硅藻土、活性炭中的任意一種；該步驟所使用溶劑為二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、苯、甲苯、二甲苯、氯苯中的任意一種；投料比為O-烴基青藤堿或者O-酰基青藤堿∶MnO₂∶溶劑＝1∶2～20∶3～50(mol)；反應溫度為-10～150℃。

4、權利要求2所述的氫解反應的特征是：使用的氫源試劑是氫氣、甲酸、甲酸銨、甲酰胺、環己烯或者環己二烯中的任意一種；使用的催化劑是Pd/C；使用的溶劑是甲醇、乙醇或醋酸中；投料比為Ia(R₁＝芐基)或者Ib(R₁＝芐基)或者Ic(R₁＝芐基)∶氫源∶催化劑＝1∶0.8～20∶0.001～0.5(mol)。該步驟的反應溫度為-10～85℃。

5、權利要求2所述的脫芐氧芐基反應的特征是：使用的三氟醋酸溶液是體積含量為2～15％的三氟醋酸/二氯甲烷或三氟醋酸/三氯甲烷溶液；適宜的反應溫度為-10～40℃。

6、權利要求1所述的14-羥基青藤堿衍生物在制備抗炎藥物中的應用。