[發明專利]高真空溶鹽爐TD處理在審

申請號：	200810242811.7	申請日：	2008-12-26
公開（公告）號：	CN101497983A	公開（公告）日：	2009-08-05
發明（設計）人：	顧嘯強	申請（專利權）人：	蘇州市萬泰真空爐研究所有限公司
主分類號：	C23C8/44	分類號：	C23C8/44
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	215200江蘇省吳江市吳江松陵***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	真空溶鹽爐 td 處理
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【權利要求書】：

在高真空狀態下，采用TD法獲得碳化物涂層的工藝也有一定的局限性，應用于模具的表面硬化時，要注意以下幾點：①處理溫度高，滲層會引起尺寸脹大，對高精度模具應采取措施，預防變形；②處理前模具必須加工到要求的表面粗糙度，以保證處理后的表面質量；③當載荷過大，引起模具產生塑性變形時，會引起碳化物層產生裂紋；④薄刃模具在薄刃處供碳不足，難以形成厚的碳化物層；⑤對基體材料的含碳量應合理選擇，在不影響鋼的韌性和其他性能的條件下，應保證能夠提供足夠的碳，以行成碳化物；⑥模具在5000C以上氧化性氣氛中長期使用，會使VC、NbC等碳化物層氧化，影響其性能。

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